新型镀膜技术实现高性能介质膜光学元件-LaserComponents.PDFVIP

Technologies Center 技术中心 光学镀膜 新型镀膜技术实现高性能介质膜 光学元件 美国莱特太平洋公司编译 随着光学应用的发展进步，其对 束镀膜技术的工作原理是通过一个电 方法称为离子辅助沉积（Ion-Assisted 光学元件的规格、精度、稳定 子束，在真空环境中蒸发介质材料。 Deposition ， IAD ）。由于这种动力转移， 性和重复性等指标也提出了更加严格 一般来说，电子束镀膜机器的室容积 使得膜层表面沉积的分子获得额外的 的要求。除了使用新的镀膜设备以外， 比较大，生产时间比离子束溅射镀膜 动能，从而在不断生长的膜层结构中 还可以通过对现有设备进行改进，例 技术更短，从而能够降低生产成本。 填充每个空隙。因此，通过仔细调整 如将离子辅助沉积镀膜技术与膜层厚 尤其是对于纳秒脉冲激光，通过电子 离子束，可以实现明显更为紧凑的膜 度光学宽带光谱监测技术相结合，从 束镀膜方法产生的膜层具有很高的损 层。相较于电子束镀膜技术，通过这 而实现一种新型的高性能膜层，以更 伤阈值，而这是离子束溅射镀膜很难 种方法获得的膜层的机械性能和热稳 好地满足应用需求。 实现的。[1] 此外，电子束镀膜可以在 定性能都有了极大的提高，已经接近 一次镀膜过程中同时制作不同中心波 于离子束溅射镀膜技术所产生的膜层。 离子束溅射镀膜 长或不同入射角的膜层。这些都是电 这种方法还可以避免膜层中掺水。这 在过去的几年中，离子束溅射 子束镀膜技术所具有的独特优势，是 样膜层就可以不受外界环境的影响， （Ion Beam Sputtering ，IBS ）镀膜技 离子束溅射镀膜技术无法实现的。因 而且能够保证即使在多变的工作环境 术已经在市场上投入使用，尤其是用 此，电子束镀膜技术仍然是目前各种 下，膜层的规格性能也能保持不变。 于要求非常苛刻的镀膜。由于IBS 镀 应用的最佳选择。直到最近，电子束 通过交替使用低能量离子源，可 膜具有很高的可重复性，并且沉积速 ： 镀膜技术才显现出了两个缺陷 一是 以准确地控制离子辅助的程度，得到 率缓慢，因此镀膜层的厚度可以制作 膜层对温度变化过于敏感，存在热漂 不同性能的膜层。这是离子辅助沉积 得非常精确。此外，这种镀膜技术可 移现象；二是对于复杂膜层的加工精 镀膜的优势，尤其是在处理对压力高 以制造出紧凑的膜层，对环境温度变 度和重复性非常有限。 度敏感的材料或者生产极高破坏阈值 化不敏感，并且散射非常少。但IBS 随着光学技术的发展，对精密光 的膜层时，这一点尤为重要。 ： 镀膜技术的一个最大缺点是 膜层生 学的要求不断增加。为了满足这种要 长速度非常缓慢，制作一个膜层需要 求，弥补上述镀膜技术存在的一些不 复杂膜层厚度的在线宽带光 很长时间。此外，与常规的镀膜机器 足，可以利用一些先进技术对现有的 谱监测 相比，IBS 镀膜机器的容量通常较小。 镀膜设备进行相应的改进。 为了达到更高的制造精度和重复 性，可以另外安装一个光学原位宽带 电子束镀膜 离子辅助沉积镀膜——紧凑 光谱监测仪器，用于测量膜层的厚度 电子束镀膜是最广为人知的、可 型温度不敏感膜层 （见图1）。与通常的监测概念不同， 能也是市场上使用最为广泛的镀膜技 为了避免热漂移现象，可以在现 沉积的膜层厚度不是在白片的中心测 术。电子束镀膜技术也被称为PVD 有的镀膜机器上安装一个高性能的 量，或者是由石英微量天平测量，而 （Physical Vapor Deposition ，物理气相 离子源。镀膜时，有一束低能量的 是直接在基片上测量。这样可以提高 沉积）或简单地叫做E-Beam 。电子 离子流对准沉积膜层，所以将这种 制造精度。更重要的是，整个可见光 激光世界 Lase