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20 Oct. 2001 Vol.30 NO.5 等离子聚合薄膜技术及其应用 张，.万平 (辽宁大学化学科学与工程学院，辽宁沈阳 110036) 【摘要』介绍了当今深受关注的等离子策合薄膜的制备技术。其中，重点探讨了在低能通贡和高能通全条件下 制备等离子策合物的沉积过程、膜的结构形态及主要性能，并对近来人们在中等能全通贡下制备的等离子来合体的研 究情况做了简要描述。与此同时，还扰各种不同等离子策合薄膜的实际应用及发展前景进行了概括。 〔关健词〕等离子;等离子来合体;喊射薄膜 【中圈分类号]TQ630.79 文【献标识码]B 文【章编号]1001一3660(2001)05一0 一04 PlasmaPolymerFilmsSkillandTheirApplicationProspect 2月ANG