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有序介孔钴掺杂氧化硅的合成与表征
石油学报 (石油加工)
2012年 4月 ACTAPETROLEISINICA (PETROLEUMPROCESSINGSECTION) 第 28卷第 2期
文章编号 2012)02—0317—06
有序介孔钴掺杂氧化硅的合成与表征
苑娜娟,靳倩倩,徐舜华,邢向英,任铁真
(河北工业大学 化工学院,天津 300130)
摘要 :以硅酸钠为硅源、氯化钴为钴源 、表面活性剂 Brij56为模板 ,水热合成得到一系列 co掺杂介孔氧化硅 (Co—
MS),采用 x一射线衍射 (XRD)、Nz吸附脱 附、透射 电镜 (TEM)、紫外可见吸收光谱 (UV—Vis)和红外光谱 (FT—
IR)等手段表征 了合成样品的结构和性质 。合成过程 中,一定量 的Co(II)离子 的存在可 以有效增加介孔氧化硅的比
表面积 ,并一定程度地增大有序介孔的孔径 ,表 明钴盐 的加入对介孔结构起盐效应 。从 Co—MS的uv_vis分析可
以看 出,在其骨架 中只含有 Co(II)。
关 键 词 :钴掺杂 ;介孔材料 ;氧化硅 ;盐效应
中图分类号 :TQ170.7 文献标识码 :A doi:10.3969/j.issn.1001—8719.2012.02.024
Synthesisand CharacterizationofOrderedM esoporousCo-DopedSilica
YUAN Najuan,JINQianqian,XU Shunhua,XINGXiangying,RENTiezhen
(SchoolofChemicalEngineering,HebeiUniversityofTechnology,Tianjin300130,China)
Abstract:Co—modified mesoporoussilica(Co—M S)with differentCocontentwashydrothermally
synthesizedbyusing sodium silicateassilica source,cobaltchlorideasCo sourceand surfactant
Brij56asstructure—directingagent,andcharacterizedbyX—raydiffraction (XRD),N2adsorption-
desorption,transmission electronmicroscopy (TEM ),ultraviolet—visibleadsorption spectroscopy
(UV—Vis)andinfraredspectroscopy (FT—IR).ThesurfaceareaofCo—M Swasincreasedwith the
Co—doping,aswellastheenlargementofthesizeoforderedmesopores,indicatingthesalteffectof
cobaltchloride,whichwashelpfultoobtainhighlyorderedmesoporousmaterials.UV—Visspectra
verifiedthatonlyCo (II)ionsexistedintheframework ofCo—M S.
Keywords:Co—doping;mesoporousmaterial;silica;salteffect
含钴原子的分子筛及介孔材料在费托合成 和 的工业化应用。Luo和 Wang等 墙]在酸性条件下以
催化氧化 等领域有广泛的应用 。由于分子筛孔道 三嵌段共聚物 P123为模板 ,采用直接水热合成 的
较小 ,不利于一些有机大分子的反应 ,而介孔材料 方法制备 出有序介孔 Co—sBA一15,但其使用的硅源
具有高 比表面积 、较大的孔径等特点 ,在一些涉及
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