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退火温度对二氧化钛薄膜性能影响 　　摘要： 为了获得性能优良的二氧化钛薄膜，采用电子束蒸发沉积方法制备二氧化钛薄膜，并分别在300、600、900 ℃空气中对样品进行退火处理以改善所制备二氧化钛薄膜的性能。分别采用X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）以及分光光度计研究了退火温度对二氧化钛薄膜结构和光学性能的影响。结果表明，退火处理可以使二氧化钛薄膜由非晶态薄膜转换为金红石型薄膜，且金红石晶型成分随退火温度的加大而增大，同时退火处理可以改善二氧化钛薄膜在300～1 200 nm光谱范围的总吸光率以及增大二氧化钛薄膜的应用范围 关键词： 二氧化钛薄膜； 退火温度； X射线衍射（XRD）； 原子力显微镜（AFM）； 透射率 中图分类号： O 484.4文献标志码： Adoi： 10.3969/j.issn2017.01.012 The influence of the annealing temperature on the properties of titanium dioxide thin film PAN Changjin， ZHANG Dawei， WANG Jian， LU Zhongrong （School of OpticalElectrical and Computer Engineering， Uni