光催化材料NiO-TiO 2 ／SiO 2的结构与性能研究 - 分子催化.PDF

　第２１卷 第６期 分　　子　　催　　化 Ｖｏｌ．２１，Ｎｏ．６　 　２００７年１２月 ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＭＯＬＥＣＵＬＡＲＣＡＴＡＬＹＳＩＳ（ＣＨＩＮＡ） Ｄｅｃ．　２００７　 文章编号：１００１３５５５（２００７）０６０５４５０５ 光催化材料ＮｉＯＴｉＯ／ＳｉＯ 的结构与性能研究 ２ ２ 柳　荫，孔令丽，钟顺和１） （天津大学 化工学院天津３０００７２） 摘　要：采用表面改性法制备了负载型ＮｉＯＴｉＯ／ＳｉＯ复合半导体材料，用Ｘ射线衍射、比表面测定、透射电镜、 ２ ２ 红外光谱、拉曼光谱、紫外可见漫反射等技术，研究了光催化材料的物相结构、微粒尺寸、光响应性能及其能带 结构．结果表明：复合半导体材料具有较高的比表面积，ＮｉＯ和ＴｉＯ在材料表面产生相互修饰作用，ＮｉＯ的加入 ２ 促进了ＴｉＯ在载体表面的分散程度，两者复合后部分地形成了ＮｉＯＴｉ键联．复合后的ＮｉＯＴｉＯ／ＳｉＯ增强了对紫 ２ ２ ２ 外光的吸收性能，而且ＮｉＯ与ＴｉＯ间的ｎｐ复合效应改变了原来ＴｉＯ单一的能带结构，有效的抑制了光生电子和 ２ ２ 空穴的复合，从而明显提高材料的光催化性能． 关　键　词：表面改性法；复合半导体；光催化材料；吸光性质；能带结构 中图分类号：Ｏ６４３．３ 文献标识码：Ａ 　　半导体多相光催化是近２０年来发展起来的新 ２ （比表面积为３５０ｍ／ｇ，０．１５ｍｍ，饱和吸水量为 兴研究领域，科学家们对此进行了大量的研究，许 １．５ｍＬ／ｇ）加入异丙醇钛的异丙醇溶液．再经表面 多禁带大于２．５ｅＶ的半导体材料成为研究的热点． 反应、干燥、煅烧制得白色复合载体 ＴｉＯ／ＳｉＯ，其 ２ ２ 其中，ＴｉＯ以其无毒、催化活性高、稳定性好等优点 ２ 中ＴｉＯ的含量为９．６％．将一定量的硝酸镍溶液， ２ ［１］ 而备受关注 ．但是单一半导体在反应中存在易发 等体积浸渍于制备好的ＴｉＯ／ＳｉＯ载体表面，充分 ２ ２ 生光腐蚀、光子利用率低以及氧化还原电势无法调 振荡后，经老化、干燥，最后在５００℃下煅烧得到 变等缺陷，使其应用受到限制．近年来的研究表 ＮｉＯＴｉＯ／ＳｉＯ，ＮｉＯ的含量为２％． ２ ２ 明，两种半导体复合可以通过改变材料的能级结构 １．２固体材料的表征方法 来影响光生载流子的分离效果，具有较好的应用前 ＢＥＴ比表面用意大利 ＴｈｅｒｍｏＦｉｎｎａｇａ公司的 景 ［２］ ［３］ ．复合半导体ＴｉＯＦｅＯ 、ＴｉＯＭｏＯ 、ＴｉＯ