关键词摘要太阳电池抗反射层镀膜制程需求 - 机械工业杂志.pdfVIP

太陽光電製程設備技術專輯 加以探討分析。 關鍵詞 x:H) ‧太陽電池 Solar Cell ‧抗反射 Anti-Reflection 2 ‧鈍化 Passivation SiN x ‧電漿輔助化學氣相沉積 PECVD x 摘要 SiN x 在現今的太陽電池製造產業中，非晶質含氫的 vendors are discussed, too. 氮化矽抗反射層鍍膜(SiN x)已被視為一項標準程 序。因為SiN x抗反射層經驗證發現其不但可以降低 光的反射損失，同時可以對基材與表面進行鈍化來 太陽電池抗反射層鍍膜製程需求 提升電池的效率，因此在1990年代SiN x鍍膜取代 了先前廣泛使用的TiO 2鍍膜技術。對現今的矽晶太 在歷史上，太陽電池技術曾在第一次石油危機 陽電池製造廠而言，SiN x鍍膜設備可說是非常重要 的時候，受到極大的注目與投注資源發展，但後來 的，本文針對目前SiN x的主流鍍膜技術以及其設備 即因為石油危機的解除而逐漸被人們淡忘。近幾年 50 │ │ 290期 │ 太陽光電製程設備技術專輯 來，由於日本與德國以國家資源投注，利用補助或 nd=1/4λ，λ 則是選定太陽光譜中光強度最高的 優惠收購發電的政策，來提振一般大眾安裝太陽光 600nm波長，膜層的材料要求則為透光性高，不會 發電系統之意願，使得太陽光發電系統市場迅速成 將光吸收，且其化學與物理穩定性良好。早期的抗 長，連帶使得太陽電池製造產業蓬勃發展，同時由 反射層鍍膜使用Sol-gel方式鍍上TiO 2材質，但約在 於石油價格屢屢創下新高紀錄，與全球溫室效益影 1990年左右研究發現，使用PECVD鍍上SiN x膜做 響的嚴重程度，使得全世界的太陽電池製造產業迅 為抗反射層的太陽電池，轉換效率有明顯提升，因 速暴紅。台灣亦在2004年底開始，出現兩家專業生 此目前商業生產的太陽電池已將SiN x鍍膜製程視為 產太陽電池公司的股王。目前以市場規模與製造技 一標準化的抗反射層鍍膜製程。圖一為TiO 2與SiNx 術成熟度觀之，在各種型態的太陽電池中，以使用 抗反射層的效率分布比較圖。 和半導體產業相同原料的矽晶片來製造的矽晶太 陽電池生產技術為最為成熟。因此國內亦在短短的 兩三年內，仰仗國內半導體產業人才技術優勢，矽 晶太陽電池製造廠也快速增長至