模板法合成Co纳米线有序阵列的偏光特性-无机化学学报.PDF

维普资讯 第 4期 无 机 化 学 学 报 Vo1．19．No．4 2003年 4月 CHINESE JOURNAL OF INORGANIC CHEMISTRY Apr．，2003 模板法合成 Co纳米线有序阵列的偏光特性 梁燕萍 ，1,2 史启祯 吴振森 卢 敏 (’陕西省物理无机化学重点实验室／西北大学化学系，西安 710069) (西安电子科技大学理学院，西安 710071) 关键词 多孔氧化铝模板 金属纳米线阵列 偏光特性 分类号 0611．4 0614．8l 2 0734 随着现代微 电子技术 的飞速发展 ，各种光 电子 光滑 的镜面 。然后在硫酸 (HSO：1．7mol·L～、 器件 的微型化对材料提 出了纳米化要求 。 目前 已有 Ni ：10g·L )溶液 中，利用直流叠加脉冲电源进 多种方法制备纳米材料 ，其 中，在特定 的模板 中沉积 行 阳极氧化处理 ，获得具有一定孑L穴率和一定厚度 各种材料而构建纳米 点阵的方法 即模板制备法，因 的多孑L氧化铝模板。 能够在 限制性介质环境 中，设计 出在孑L径和孑L道尺 1．2 金属纳米线有序阵列的合成 寸可控 的模板模型，可在其 中有效地嵌人各种纳米 将多孑L氧化铝模板分别放人钴盐 、掺杂银 的钴 粒子并可控制其尺寸大小、防止 团聚的发生，从而为 盐 (C0 ：100～120g ·L～、EDTA：20～40g ·L～、 纳米材料 的制备提供 了有效途径 。 pH=4)溶液 中，以不锈钢片作对极 ，进行交流电沉 常用的模板主要有非 晶态 SiO 多孑L膜 、刻蚀 聚 积．一定时间后 即可在多孑L氧化铝模板 中获得金属 碳酸酯或聚酯制备多孔过滤膜 、多孑L氧化铝膜等。 钴纳米线有序阵列 。 其 中多孑L氧化铝模板 因具有孑L隙率高 、耐高温 、绝缘 1．3 多孔膜 的剥落 性好 、模板容 易制备 、合成方法简单及在模孑L中形成 经氧化和沉积金属微粒的试片在混酸 (5％乳酸 的纳米管和纳米纤维易从孑L中分离 出来等特点而倍 +5％硫酸 、3Oa=【、15V、试样作 阴极，石墨作 阳极)溶 受人们青睐 。利用氧化铝多孑L模板，采用 电化学 、化 液 中，进行逆 电剥离，数分钟后，多孑L膜与基体分 学聚合 、化学气相沉积等方法可制备有序 的纳米粒 离 。 子点阵，已经在碳纳米管 、TiO 纳米管、纳米 ZnO颗 1．4 结构表征与性能测试 粒 、微 电极束 、垂直磁记录等方面显示 了广阔的应用 多孑L氧化铝模板及沉积金属 Co的结构分析，分 前景 【_引。 别采用 日本 的JXA．733型及 JXA一840型扫描 电子显 本文用直流叠加脉冲 电源制备多孑L氧化铝模 微镜 ，其组成分析采用 D／MX．II1C全 自动 x．衍射 板，合成钴纳米线有序 阵列 ，并研究 了其偏光特性 。 仪 (Cu靶，电压 50kV，电流 30mA)，金属钴纳米线有 序 阵列偏光性 能 的测试采用 日本 的 UV．310lPC型 1 实验部分 分光光度计 。 1．1 多孔氧化铝模板制备 将纯铝板 (纯度 99．99％)，依次进行除油 、脱 脂 、清洗后，分别进行化学和 电化学抛光，得到平整 收稿 日期 ：2002—08—