三氯化铁蚀刻.pptVIP

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三氯化铁蚀刻 概述: 在印制电路、电子和金属精饰等工业中广泛采用三氯化铁蚀刻铜、铜合金及铁、锌、铝等。这由于它的工艺稳定,操作方便,价格便宜。但是,近些年来,由于它再生困难,污染严重,废液处理困难等正在被淘汰。以氯化铜、过硫酸盐、过氧化氢—硫酸、氨碱以及其它刻蚀液替代。 三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、金等抗蚀层的印制板的蚀刻。但不适用于镍、锡、锡-铅合金等抗蚀层 蚀刻机理 FeCl3+Cu →FeCl2+CuCl FeCl3+CuCl →FeCl2+CuCl2 CuCl2+Cu →2CuCl 蚀刻铜箔的同时,还伴有一些副反应,就是CuCl2和FeCl3的水解反应: 生成的氢氧化物很不稳定,受热后易分解: 结果生成了红色的氧化铁和黑色的氧化铜微粒,悬浮于蚀刻液中,对抗蚀层有一定的破坏作用。 Fe3+的消耗量与Fe3+及Cu2+溶铜量的关系 影响蚀刻速率的因素 Fe3+的浓度和蚀刻液的温度 刻液中加盐酸的添加量 蚀刻液的搅拌 其它蚀刻 硫酸-铬酸蚀刻 过硫酸铵蚀刻 硫酸-双氧水蚀刻 * *

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