薄膜技术-机电学院.PDFVIP

【薄膜技术】 【FilmTechnologyandApplications】 一、基本信息 课程代码：【2080195】 课程学分：【2】 面向专业：【电子科学与技术】 课程性质：【系级必修课】 课程类型：【理论教学课】 开课院系：【机电学院电子工程系】 使用教材：主教材：【薄膜材料制备原理技术及应用 唐伟忠 冶金工业出版社 第2版】 参考教材：【薄膜材料与薄膜技术 郑伟涛 化工出版社 第2版】 先修课程：【半导体材料2080008(3)】 二、课程简介 薄膜材料是相对于体材料而言的材料。采用特殊的制备技术，能在体材料表面淀积或 备出一层性能比体材料优异的薄膜物质；也可将各种不同的材料灵活地复合在一起，构成具 有发挥各种材料各自优势，避免单一材料性能局限性的复合材料膜。因此，薄膜材料在微电 子器件和集成电路制造中达到越来越广泛的应用。薄膜制备技术已成为实现器件小型化、系 统微型化的关键技术。本课程将系统地讲解薄膜制备的各种方法的原理和技术，在此基础上 多介绍用新技术制备新材料的具体例子，还简单地介绍薄膜的性能与应用。 三、选课建议 本课程面向电子科学与技术专业四年级本科生授课，要求学生掌握薄膜材料制备的各种 方法、技术和原理。 四、课程与培养学生能力的关联性 专业能力 计算 电路/ 工艺 自主 表达 设计 逻辑 机控 尽责 协同 服务 信息 国际 版图 制程 学习 沟通 计算 分析 制和 抗压 创新 关爱 应用 视野 制图 测试 能力 能力 应用 能力 能力 能力         五、课程学习目标 通过本课程的学习，要求学生获得薄膜制备过程中最基本的专业知识和技能，具体要达到 的知识目标和能力目标是： 1.掌握薄膜制备的基本概念，区分不同材料的性能和应用场合； 2.学会测定真空度； 3.学会分析薄膜的均匀性和纯度对薄膜制备的影响； 4.掌握电子束蒸发法、磁控溅射法的工艺流程； 5.掌握化学气相沉积法的基本工艺流程，比较不同反应类型的特点； 6.掌握外延生长的基本概念，学会分析外延成膜的机理。 六、课程内容 第一章 绪言 掌握薄膜材料、种类；知道材料独特优异的性能和应用；知道材料的发展前景。 第二章 薄膜制备的真空技术基础 理解真空对薄膜制备的意义；掌握真空单位及等级；知道真空设备；掌握真空度测定。 第三章 真空蒸发法（PVD Ⅰ） 掌握真空蒸发物理基础；理解淀积膜厚度均匀性和纯度；理解电阻式蒸发法；掌握电子束蒸 发法。 知道激光蒸发法。 第四章 溅射法（PVD Ⅱ） 掌握溅射的物理基础；理解溅射现象；知道溅射率；溅射特性；知道直流溅射；三极溅射； 射频溅射；掌握磁控溅射；反应性溅射。 第五章 化学气相淀积 知道CVD基本过程；掌握一些常用膜获得过程；掌握CVD反应类型和特点；CVD条件；知道 CVD装置简介；掌握CVD基本工艺流程；掌握APCVD;LPCVD;PECVD;PCVD;MOCVD。 第六章 外延生长 知道外延生长的一些基本概念；掌握外延生长的必要条件；掌握外延膜形成机理；理解化学 气相外延；分子束外延。 七、评价方式与成绩 总评构成 （1+X）