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第二篇电子显微分析技术.PPT

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第二篇电子显微分析技术

透射电镜的构造与工作原理 光源 中间象 物镜 试样 聚光镜 目镜 毛玻璃 电子枪 聚光镜 (电磁透镜) 试样 物镜 中间象 投影镜 观察屏 照相底板 照相底板 光学显微镜 电子显微镜 一、电子抢及电磁透镜 电子枪 聚光镜 (电磁透镜) 试样 物镜 中间象 投影镜 观察屏 照相底板 电子显微镜 一、电子抢及电磁透镜 阴极(接负高压) 控制极(比阴极 负100~1000伏) 阳极 电子束 聚光镜 试样 照明部分示意图 1. 电子抢 照明系统 成像系统 记录系统 2. 电磁透镜 (1) 原理 透射电子显微镜中用磁场来使电子波聚焦成像的装置。电磁透镜实质是一个通电的短线圈,它能造成一种轴对称的分布磁场。正电荷在磁场中运动时,受到洛仑磁力的作用即。 电子枪 聚光镜 (电磁透镜) 试样 物镜 中间象 投影镜 观察屏 照相底板 电子显微镜 (2)电磁透镜特点: ① 能使电子偏转会聚成像,不能加速电子; ② 总是会聚透镜; ③ 改变线圈中的电流强度可很方便地控制焦距和放大率焦距、放大倍数连续可调。 (3)电磁透镜的光学性质 电磁透镜物距、像距和焦距三者间的关系与光学玻璃透镜相似,满足牛顿透镜方程 u - 物距;v - 像距;f - 焦距 u f v (3)电磁透镜的光学性质 电磁透镜具有光学凸透镜的特点,它们物距、像距和焦距三者间的关系相似,满足牛顿透镜方程 u - 物距;v - 像距;f - 焦距 放大倍数为: u f v (4)电磁透镜的像差与分辩率 (4)电磁透镜的像差与分辩率 根据瑞利判据,电磁透镜的分辩率为: 但是,实际上目前的透射电镜远远达不到理论水平,如,H-800,200 kV时分辩率只有0.45nm,因为电磁透镜也存在像差。 二、照明系统 ① 组成:由电子枪、聚光镜(1、2级)和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。 电子枪 聚光镜 (电磁透镜) 试样 物镜 中间象 投影镜 观察屏 照相底板 电子显微镜 照明系统 成像系统 记录系统 ②作用:提供一束亮 度高、照明孔径角小、平行度高、束斑小、束流稳定的照明源。为满足明场和暗场成像需要,照明束可在2o-3o范围内倾斜。 (一)电子源和电子枪 电子枪是电镜的电子源。其作用是发射并加速电子,并会聚成交叉点。 目前电子显微镜使用的电子源有两类: 热电子源 — 加热时产生电子,W丝,LaB6 场发射源 — 场发射阴极的面积较小、能量集中,便于将电子束聚焦于一个很小的点,以提高分辨率. 从电子枪发射出的电子束,束斑尺寸大,相干性差,平行度差,为此,需进一步会聚成近似平行的照明束,这个任务由聚光镜实现,通常有两级聚光镜来聚焦。 (二).聚光镜系统 聚光镜的作用是会聚电子枪发射出的电子束,调节照明强度、孔径角和束斑大小。一般采用双聚光镜系统,如图所示。 C1 — 为强磁透镜, C2 — 弱磁透镜,长焦,小? 为了调整束斑大小,在C2聚光镜下装一个聚光镜光栏。通常经二级聚光后可获得几um的电子束斑;为了减小像散,在C2下还要装一个消像散器,以校正磁场成轴对称性的; 电子枪还可以倾斜2o — 3o,以实现中心磁场成像。 由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成 . 1. 物 镜 用来获得第一幅高分辨率电子显微图像或电子衍射花样的透镜。电镜的分辨率主要取决于物镜,必须尽可能降低像差。 ??物镜通常为强励磁、短焦透镜(f = 1-3mm), 放大倍数100 -300倍,目前,高质量的物镜其分辨率可达0.1nm。 物镜的分辨率主要决定于极靴的形状和加工精度,极靴间距越小,分辨率就越高。为进一步减小物镜球差,在物镜后焦面上安放物镜光阑。 试样 物镜 衍射谱 选区光阑 一次象 中间镜 二次象 投影镜 三次象 (荧光屏) 物镜光阑 显微像 试样 物镜 衍射谱 选区光阑 一次象 中间镜 二次象 投影镜 三次象 (荧光屏) 物镜光阑 显微像 选区光栏 装在物镜像平面上,直径20-400 ?m 作用:对样品进行微区衍射分析。 中间镜 中间镜是一个弱励磁、长焦距、变倍率透镜,放大倍数可调节0 -20倍 作用: 控制电镜总放大倍数(如图20万倍) 成像/衍射模式选择: 如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合,则在荧光屏得到显微图像成像模式,如果把中间镜的物平面和物镜的背焦面重合则在荧光屏得到电子衍射花样衍射模式。 试样 物镜 衍射谱 选区光阑 一次象 中间镜 二次象 投影镜 三次象 (荧光屏) 物镜光阑 显微像 物平面 物平面 3. 投影镜 短焦、强磁透镜,进一步放大中间镜的像。投影镜内孔径较小,使电子束进入投影镜孔径角很小。

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