AKT_SPUTTER_SIO2镀膜特性简介.pptVIP

AKT SPUTTER SIO2 鍍膜介紹 前言 二氧化矽(Silicon dioxide, Silicon oxide, Silica, SiO2)薄膜已經是一種 普遍應用於各個領域的重要膜層，例如在半導體技術方面，SiO2 薄 膜是最常用來當作絕緣層的一種材料；在鍍膜工業中，SiO2 薄膜也 常用來當作金屬或其他材料的表面抗刮與保護層；在光學薄膜濾光 片領域中，SiO2 薄膜是很好的一種單層抗反射膜，更是最常用的一 種『低折射率』膜層，用來製鍍多層光學薄膜濾光片。而本次的專 題報告將針對現行FAB2 AKT SPUTTER SiO2鍍膜的特性做介紹， 希望透過本次的專題，可以使各位同仁對SiO2鍍膜有初步的認知。 豆知識： 矽（中國大陸稱作硅，港澳台稱作矽）。 POWER： 一般業界濺鍍SiO2，Power多數是使用RF 居多(Radio-Frequency)[高頻]而 AKT 使用的Power稱為MF ( Medium-Frequency )[中頻] 而RF 與 MF 和 DC之間的差異性，詳下表： Power Type 工作頻率 優點 缺點 DC (直流電) 無 便宜 鍍率較優 只可用於 導電性佳靶材 RF (交流電) 13.56MHz 成膜均勻、緻密度高 可用於金屬非金屬靶材 鍍率差 MF (交流電) 20KHz – 70KHz 鍍率好 可利用於金屬和