十二章装配与封装剖析
12.2.2陶瓷封装 应用于要求具有气密性好、高可靠性或者大功率的情况。 陶瓷封装有两种方法: 耐熔(高熔点)陶瓷 薄层陶瓷 一、耐熔陶瓷 1、耐熔陶瓷基座:由氧化铝(Al2O3)粉和适当的玻璃粉及一种有机媒质混合而构成的浆料,被铸成大约1密耳(1密耳约25微米)厚的薄片,干化,在各层制作用户连线电路的布线图案,用金属化通孔互连不同的层,几个陶瓷片被精确地碾压在一起,然后烧结构成一个单一地熔结体。 2、耐熔陶瓷种类:可根据烧结温度地不同分为 高温共烧结陶瓷(HTCC)——烧结温度1600 °C 低温共烧结陶瓷(LTCC)——烧结温度850 °C 到 1050 °C 3、耐熔陶瓷封装材料的挑战: 高收缩性(使公差难以控制) 高介电常数(增加了寄生电容,并影响高频信号) 氧化铝的电导率(称为信号延迟的原因) 4、陶瓷封装的形式: 最常用的管脚形式是100密耳间距的铜管脚,组成针栅阵列(PGA)管壳,这是为电路板装配的插孔式管壳。PGA被用于高性能集成电路,PGA管壳经常需要一些散热片或小风扇排出管壳内产生的热。 二、薄层陶瓷 陶瓷封装的一种低成本方法是在引线键合后,将两个陶瓷件压在一起,引线框架被定位在它们之间,这种封装被称为陶瓷双列直插,使用低温玻璃材料将陶瓷层密封。 12.3先进的装配与封装 未来封装目标:通过增加芯片密度
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