应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值-强激光与粒子束.PDF

! 第# 卷! 第$ 期 强 激 光 与 粒 子 束 %’( # ，)( $! ! $**+ 年$ 月 ,-., /0123 45623 5)7 /538-942 :25;6 =( ， $**+! 文章编号：! **?@A$$（$**+ ）*$?*$A?*@ 应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值! ，$ ，$ ，$ ，$ 张东平 ，! 张大伟 ，! 范树海 ，! 黄建兵 ，! 赵元安 ，! 邵建达 ，! 范正修 （! 中国科学院上海光学精密机械研究所，上海$* B** ；! $! 中国科学院研究生院，北京 ***AC ） ! ! 摘! 要：! 利用电子束热蒸发方法在DC 玻璃基底上沉积氧化锆薄膜，并对其中一些样品用低能0 E 进行 $ 了后处理。采用表面热透镜技术测量薄膜样品表面弱吸收，采用显微镜观察样品离子后处理前后的显微缺陷 密度。测试结果表明：经离子后处理样品表面的缺陷密度从B( FG HH$ 降低到F( $G HH$ ，且其激光损伤阈值从 +( C IG JH$ 提高到$A( IG JH$ ，样品的平均吸收率从处理前的( @# K * L @ 降低到处理后的C ( +F K * L + 。通过 对处理前后样品的表面微缺陷密度、吸收率及损伤形貌等的分析发现：离子后处理可以降低薄膜的显微缺陷和 亚显微缺陷，从而降低薄膜的平均吸收率，同时增强了薄膜与基底的结合力，提高了薄膜的激光损伤阈值。 ! ! 关键词：! 激光损伤阈值；! 薄膜；! 离子后处理；! 微缺陷 ! ! 中图分类号：! 0@B@ ( @! ! ! ! 文献标识码：! 5 ! ! 随着激光技术的发展，对激光系统中薄膜元件激光损伤阈值的要求越来越高。薄膜的激光损伤问题已经 成为限制激光向高功率和高能量方向发展的主要瓶颈之一［，$ ］。如何提高薄膜的激光损伤阈值是当今光学薄 膜领域一个重要的研究课题。大量实验表明，薄膜的激光损伤与微缺陷紧密相关，微缺陷是薄膜激光损伤的源 头，激光损伤一般都是从缺陷点开始发生和发展的［A ，@ ］。薄膜中的微缺陷主要有两种：显微缺陷和亚显微缺 陷。显微缺陷是在显微镜下可以看到的微缺陷，如常见的结瘤微缺陷，表面污染等；亚显微缺陷是显微镜下看 ［@ ，+ ］ 不到的微缺陷，最常见的是非化学计量比缺陷、色心等。这两类微缺陷对薄膜的激光损伤都有重要影响 。 一般而言，薄膜的缺陷密度越低，则薄膜的激光损伤阈值越高。如何降低薄膜的微缺陷是强激光薄膜研究中最 为关心的问题之一，已经成为这一领域非常活跃的研究课题。对于薄膜中微缺陷密度的降低，现在研究较多的 方法是激光预处理［F ］，即用低于其阈值的激光辐照薄膜表面，使薄膜中的微缺陷得到稳定。但是这种方法目 前还存在争议，不同研究机构得到的结果不完全相同，特别对于小光斑扫描激光预处理，如果激光能量选择不 当，预处理本身就可能使薄膜产生损伤，而且这种方法的效率也很低。 ［# ］ ! ! 由于薄膜中的显微缺陷一般与薄膜之间结合较弱，外力作用下很容易从薄膜表面脱落 ，所以我们设想 在镀膜后采用低能离子对薄膜进行轰击，使薄膜中的显微缺陷密度降低，从而提高薄膜的激光损伤阈值。相对 于镀膜前用低能离子对基片进行的离子清洗而言，我们称这种镀膜后所进行的离子处理技术为离子后处理。 本文将以氧化锆薄膜为例，对离子后处理对薄膜激光损伤阈值的影响