工作气压对磁控溅射法制备硼碳氮薄膜结晶度的影响.pdf

第３０卷 第６期 世界科技研究与发展 Ｖｏｌ．３０ Ｎｏ．６ 　 　 ２００８年１２月 ６９４－６９６页 ＷＯＲＬＤＳＣＩＴＥＣＨＲ＆Ｄ Ｄｅｃ．２００８ ｐｐ．６９４－６９６ 工作气压对磁控溅射法制备硼碳氮薄膜结晶度的影响  龚恩乐 　刘　镒　方之颢　于　杰 （哈尔滨工业大学深圳研究生院材料科学与工程学科部，西丽５１８０５５） 摘　要：本文用六方氮化硼和石墨靶材采用射频（频率为１３５６ＭＨｚ）磁控溅射法沉积硼碳氮薄膜，得到的硼碳氮薄膜可用红外， 拉曼表征。工作气压从０２Ｐａ升高到６０Ｐａ。我们可以观察到工作气压可以明显的改变硼碳氮薄膜的晶体结构和结晶度。硼碳 氮薄膜的半高宽随工作气压的增加而变化并且在工作气压１０Ｐａ时得到较好结晶度的薄膜。 关键词：硼碳氮薄膜；射频磁控溅射；工作气压；结晶度；半高宽 中图分类号：ＴＢ４３　　　文献标识码：Ａ　　　 ＥｆｆｅｃｔｏｆＴｏｔａｌＰｒｅｓｓｕｒｅｏｎＣｒｙｓｔａｌｌｉｎｉｔｙｏｆＢｏｒｏｎＣａｒｂｏｎＮｉｔｒｉｄｅ ＴｈｉｎＦｉｌｍｓＤｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙＲＦＭａｇｎｅｔｒｏｎＳｐｕｔｔｅｒｉｎｇ  ＧＯＮＧＥｎｌｅ　ＬＩＵＹｉ　ＦＡＮＧＺｈｉｈａｏ　ＹＵＪｉｅ （ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＭａｔｅｒｉａｌｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＳｈｅｎｚｈｅｎＧｒａｄｕａｔｅＳｃｈｏｏｌ，ＨａｒｂｉｎＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｘｉｌｉ５１８０５５） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｂｏｒｏｎｃａｒｂｏｎｎｉｔｒｉｄｅ（ＢＣＮ）ｔｈｉｎｆｉｌｍｓｗｅｒｅｄｅｐｏｓｉｔｅｄｏｎｓｉｌｉｃｏｎｓｕｂｓｔｒａｔｅｓｂｙｒａｄｉｏｆｒｅｑｕｅｎｃｙ（１３５６ＭＨｚ）ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ ｆｒｏｍｈｅｘａｇｏｎａｌｂｏｒｏｎｎｉｔｒｉｄｅ（ｈＢＮ）ａｎｄｇｒａｐｈｉｔｅｔａｒｇｅｔｓ．ＤｅｐｏｓｉｔｅｄＢＣＮｔｈｉｎｆｉｌｍｓｗｅｒｅｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚｅｄｂｙＦｏｕｒｉｅｒｔｒａｎｓｆｏｒｍｉｎｆｒａｒｅｄｓｐｅｃ ｔｒｏｓｃｏｐｙ（ＦＴＩＲ），Ｒａｍａｎｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ（ＲＳ）．Ｔｈｅｇｒｏｗｔｈｔｏｔａｌｐｒｅｓｓｕｒｅｒａｎｇｅｄｆｒｏｍ０２ｔｏ６０Ｐａ．Ｔｈｅｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎｔｏｔａｌｐｒｅｓｓｕｒｅｗａｓｏｂ ｓｅｒｖｅｄｔｏｈａｖｅｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｔｅｆｆｅｃｔｏｎｔｈｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎａｎｄｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｉｔｙｏｆＢＣＮｆｉｌｍｓ．Ｆｕｌｌｗｉｄｔｈａｔｈａｌｆｍａｘｉｍｕｍ（ＦＷＨＭ）ｏｆＢＣＮｔｈｉｎｆｉｌｍｓ ｃｈａｎｇｅｄｗｉｔｈｔｈｅｔｏｔａｌｐｒｅｓｓｕｒｅｉｎｃｒｅａｓｅａｎｄｂｅｔｔｅｒｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｉｔｙｗａｓｏｂｓｅｒｖｅｄｆｏｒｔｈｉｎｆｉｌｍｓｐｒｅｐａｒｅｄａｔ１０Ｐａ． Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ＢＣＮｔｈｉｎｆｉｌｍｓ；ＲＦｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ；ｔｏｔａｌｐｒｅｓｓｕｒｅ；ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｉｔｙ；ＦＷＨＭ ［６］