甲烷部分氧化制合成气.pdfVIP

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甲烷部分氧化制合成气

19 6     1 9 9 8 1 1 Vol .19  No .6 Chi ese Jour al of Catalysis November 1998 铑基催化剂活性位的研究* 吴廷华1, 2 汪海有1 翁维正1 陈明树1 万惠霖1 ** (1 厦门大学化学系 体表面物理化学国家重点实验室, 物理化学研究所, 厦门361005; 2 浙江师范大学化学系, 金华 321004)   (40μl)CH CH /O (2/1)、 4 4 2 .CH , CO , 4 70%;CH , CO . H , 4 2 , , ., (, ).  , , , ,  O643 . CH : 4 CH +H O CO +3H    ΔH0 =+206.4 kJ/mol (1) 4 2 2 298 , H /CO (≥3). 2 : CH +1/2O CO +2H ΔH0 =-35.65 kJ/mol (2) 4 2 2 298 , H /CO 2, F-T 2 .,, [1 ~10] . Ⅷ(Ni, Ru, Rh, Pd Pt ).,,.Dissa ayake [3] 0 NiO Ni . [5] Buyevskaya [6] .M alle s . [1](1 ml),CH , CH /O (2) 4 4 2 、, .(40 μl),CH CH /O 、 4 4 2 ,. 1  2 1.1   RhCl ·3H O SiO (60 ~80 , 406 m /g), 3 2 2 110 ℃12 h, 500 ℃2 h, , Rh (O)/SiO . 2 :1998-03-17. :, 1958 , . *. **. 6 : 499 H 500 ℃1 h, ,Rh/SiO .H 2 2 2 . 1.2  4 mm ., (He ) ,.(SF-102G ),,Al O 601 (

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