聚合物光波导的等离子体刻蚀工艺研究 - 光子学报.pdfVIP

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2017-09-02 发布于天津
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聚合物光波导的等离子体刻蚀工艺研究 - 光子学报.pdf

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聚合物光波导的等离子体刻蚀工艺研究 - 光子学报

第卷增刊光子学报４０　　　Ｖｏｌ．４０Ｓｕ．１ｐ年月　　　　　　　　　　　　２０１１１２ＡＣＴＡＰＨＯＴＯＮＩＣＡＳＩＮＩＣＡＤｅｃｅｍｂｅｒ２０１１文章编号：（）１００４１０００７４聚合物光波导的等离子体刻蚀工艺研究孟杰，曹子谏，靳琳，孙小强，张大明（吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点联合实验室，长春１３００１２）摘要：等离子体干法刻蚀是聚合物光波导制备过程中一项关键工艺利用感应耦合等离子体各向．　异性刻蚀工艺制备了聚合物脊形结构波导，研究了不同工艺参量（源功率、偏置功率、刻蚀腔室压强以及气体组分）对脊形波导刻蚀速率的影响利用扫描电子显微镜对刻蚀后波导高度、侧壁垂直度．及表面粗糙度进行分析，得到了高刻蚀速率和低粗糙度的优化工艺条件实验结果表明：在其他工．艺条件相同的情况下，刻蚀速率随着感应耦合等离子体源功率及偏置功率的增大而增加，随刻蚀腔室压强的增大而减小，随着在／混合气体中百分比的增大而先增大后减小样品表面粗糙ＡｒＯＡｒ．２度会随着偏置功率及刻蚀腔室压强的增大而逐渐增加在源功率，偏置功率，刻蚀腔室．３５０Ｗ５０Ｗ压强，／流量配比／的条件下得到了侧壁陡直和表面平整的脊形聚合０．５ＰａＯＡｒ４０ｓｃｃｍ１０ｓｃｃｍ２物光波导．关键词：刻蚀；聚合物波导；各向异性；刻蚀速率；粗糙度ＩＣＰ中图分类号：文献标识码：：／ＴＮ３Ａ犱狅犻１０．３７８８ｚｘｂ２０１１４０ｓ１．０００７　　　　　　　　ｇ脊形波导是聚合物光波导集成器件的重要结构０引言　［］３之一良好的刻蚀形貌对光波导器件非常重要刻．．半导体制造过程中有两种基本的刻蚀工艺：干