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玻璃涂层的膜结构与性能
镀膜的膜系结构和性能;光学薄膜;光学薄膜的作用;镀膜玻璃的一些参数解释; 八种膜系;阳光控制膜/TS、TE系列;阳光控制膜/SS系列;阳光控制膜(目前欧洲市场流行的膜系) ;阳光控制膜/可热处理的膜系;标准Low-E膜 ;阳光Low-E膜 ;可钢化Low-E膜 ;双银Low-E膜 ;小结:从以上8种膜系我们可以看到它们的各个性能是不同的 ,每一种膜系的性能是取决于它内部每一层膜的性能、厚度及排布决定的。;从膜层的功能来描述;银层:
1、着床形式决定银层的质量
2、厚薄及质量决定了辐射率
3、较薄的连续性结构的膜层可在相同的辐射率情况下具有更高的透过率
;阻挡层(保护层)
1、保护银层免受沉积过程中等离子体的破坏
2、保护银层免受钢化过程中氧气和其它污染物的侵袭
3、通过影响银层与顶层电介质层之间的附着力来改善膜层的耐磨性;顶层电介质层
1、与最后的银层间的附着力对耐磨性的影响非常大
2、决定膜系的耐刮伤性、耐磨性和耐化学侵袭性;单层膜的性能;SnO膜:
1、耐酸/碱性好
2、扩散层得到改善,尤其是与锌混合使用时
3、与镀有镍铬阻挡层的银层之间有足够的附着力
4、抗划伤性能力有限(但合格);Si3N4膜:
1、在所有材料中,它的耐酸/碱性最好
2、最好的扩散层,通常用于半导体行业
3、与镀有镍铬的银层之间有足够的附着力
4、抗划伤性最好
5、可直接镀于玻璃面上作钠离子阻挡层
6、与银层的亲和性非常差;TiO膜:
1、具有足够的耐酸/碱性
2、能够用作扩散层
3、与镀有钛阻挡层的银层之间有良好的附着力
4、高折光指数意味着因刮擦而引起的膜层厚度微小变化会显示较大的光学影响(不太适宜做顶层电介质层)
5、具有好的折射率,能改善透光率(适宜做低层电介质层);Nb2O5膜:
1、具有好的折射率,能改善透光率(适宜做低层电介质层)
2、沉积速度较快,但价格太贵,一般不用;Bi2O3膜:
1、具有好的折射率,能改善透光率(适宜做低层电介质层)
2、沉积速度较快,但靶材的加工制造非常难
3、可靠性存在问题
4、沉积工艺难
5、仅用于Interpane的专利工艺
;NiCr膜:
1、是银层和SnO或Si3N4层之间具有良好附着力的必须
2、可作钠离子的阻挡层,是银层很好的保护层
缺点:吸收性太强;ITO膜:
1、既能导电,透明性又好,是最好的玻璃镀膜材料,但价钱太贵
2、是优良的阻挡层
3、皮尔金顿采用
4、一般用做显示器镀膜材料;其它
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