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(19)中华人民共和国国家知识产权局 *CN102051100A* (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 102051100 A (43)申请公布 日 2011.05.11 (21)申请号 201010523695.3 B32B 9/04 (2006.01) B32B 27/00 (2006.01) (22)申请 日 2010.10.28 (71)申请人 浙江工业大学 地址 310014 浙江省杭州市下城区朝晖六区 (72)发明人 杨晋涛 桑燕 陈枫 钟明强 (74)专利代理机构 杭州天正专利事务所有限公 司 33201 代理人 黄美娟 王兵 (51) Int.C l. C09D 133/08 (2006.01) C09D 133/12 (2006.01) C09D 1/00 (2006.01) C08F 220/18 (2006.01) C08F 220/14 (2006.01) C03C 17/42 (2006.01) 权利要求书 2 页 说明书 7 页 附图 1 页 (54) 发明名称 一种层状有序杂化涂膜及其制备方法 (57) 摘要 本发明公开了一种层状有序杂化涂膜,是由 10~200nm 厚度的无机纳米粒子层和50nm~5 μm 厚度的聚合物层交替堆积组成的500nm~40 μm 厚 度的层状有序杂化涂膜,所述无机纳米粒子层为 蒙脱土层或水滑石层,所述聚合物层由聚合物乳 液涂膜制备得到,所述聚合物乳液按以下方法制 得:单体、表面活性剂、引发剂加入去离子水中, o 在50 ~80 C 温度下进行聚合反应5 ~8 小时,反 应完毕后冷却至室温,制得聚合物乳液。层状杂化 涂膜材料采用交替旋涂或喷涂的方法制备,聚合 物层与无机纳米粒子层厚度能够通过工艺控制, 另外通过选用能够参与聚合的表面活性剂,能够 实现无机片状粒子与聚合物相的化学连接,从而 A 提高材料的力学、耐热、耐腐蚀等性能。 0 0 1 1 5 0 2 0 1 N C CN 102051100 A 权 利 要 求 书 CN 102051106 A 1/2 页 1. 一种层状有序杂化涂膜,其特征在于所述的层状有序杂化涂膜是由10~200nm 厚度 的无机纳米粒子层和50nm~5um 厚度的聚合物层交替堆积组成的500nm~40um 厚度的层状有 序杂化涂膜,所述无机纳米粒子层为蒙脱土层或水滑石层,所述聚合物层由聚合物乳液涂 膜制备得到,所述聚合物乳液按以下方法制得:单体、表面活性剂、引发剂加入去离子水中, o 在50 ~80 C 温度下进行聚合反应5 ~8 小时,反应完毕后冷却至室温,制得聚合物乳液, 所述单体、表面活性剂、引发剂、去离子水的质量比为10 ~70 :0.5 ~3 :0.05~0.3 :100 ;所 述单体为丙烯酸丁酯、丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸丁酯、丙 烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸、丙烯酰胺中的一种或两种以上的混合;所述无机纳米粒子层为蒙 脱土层时,所述表面活性剂为阳离子表面活性剂,所述无机纳米粒子层为水滑石层时,所述 表面活性剂为阴离子表面活性剂;所述引发剂为偶氮二异丁脒盐酸盐或过硫酸铵。 2. 如权利要求1 所述的层状有序杂化涂膜,其特征在于所述阳离子表面活性剂为下列 一种或两种以上的混合:十六烷基三甲基溴化铵,十八烷基三甲基溴化铵、甲基丙烯酰氧乙 基三甲基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵、十二烷基三甲基氯化铵或十八烷基二甲基苄基 氯化铵。

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