超纯水制造技术.PDFVIP

工業污染防治 第 107 期(July 2008) 145 超純水製造技術 莊順興* 、柯貴城** 、歐陽嶠暉*** 摘 要 半導體製程、醫藥品製程及精密洗淨製程均需要使用大量超純水，且隨著製 程精密度與安全度要求之提高，為確保生產製程之品質，超純水之純度與良好之水 質管理已成為產業競爭力重要之一環。就超純水水質而言，各種製程所需之超純水 純度與所要求之水質項目亦不完全相同，為符合各類製程之要求，超純水之生產經 常是各種不同單元之組合技術，其中，經常使用之水處理技術單元包括前處理(如 混凝、浮除) 、離子交換、逆滲透、電透析離子交換、脫氣、超過濾、UV 殺菌及 UV 臭氧氧化等技術，各種技術單元之組合，對於水質控制與管理之特性將有所不 同。因此，如何由水質管理面分析選用適當之水質處理技術，將成為高效能超純水 系統設置之關鍵。 【關鍵字】純水、超純水、半導體製程、醫藥品製程、精密洗淨製程 *朝陽科技大學環境工程與管理系 副教授 **和明紡織公司 顧問 ***國立中央大學 榮譽教授 146 超純水製造技術 一、前 言 各種工業製程經常需使用到高純度之用水，以確保製程達到完全洗淨之效 果。於純水及超純水系統中，經常使用之水處理技術除前處理單元外，常包括離子 交換、逆滲透、電透析離子交換、脫氣、超過濾及UV 殺菌等技術，本文乃就文獻 中常見於半導體製程、醫藥品製程及精密洗淨製程之純水或超純水製造系統加以整 理，以提供相關製程用水技術評估之參考。 二、半導體製程用超純水製造系統 2.1 概要 半導體、液晶、晶圓、精密零組件等製造，都必須使用大量超純水，以洗淨 藥品處理後所沾附的藥品及髒污。。一般而言，精密零組件製程的超純水使用量約 為 10~20m3/hr ，而半導體或液晶等大型生產線的純水使用量則會達到 100~200m3/hr 。 超純水的製造依產品別而有不同的水質要求，如最先進的 LSI 生產線就必須 使用最高標準水質的超純水。超純水製造技術的核心技術，包括有離子交換技術、 膜過濾技術、配管技術及分析技術。以下乃就半導體製程超純水製造系統、設計及 運轉管理要點等加以說明。 2.2 超純水製造系統 1.超純水水質的高純度化 ULSI 及 LCD 製程的超純水水質要求如表 1 所示。DRAM 的記憶體容量越 高，所要求之超純水水質純度亦越高。例如，對 1Gb DRAM 製程的超純水水質 之要求為粒徑 0.03μm 之微粒子應低於 5 個/mL 、TOC 與溶氧在 1μg/L 以下、重 金屬 1ng/L 以下。而液晶製程的超純水水質則約相當於 4~16Mb DRAM 製程的 水準。 工業污染防治 第 107 期(July 2008) 147 表 1 ULSI 及 LCD 製程超純水水質要求 電阻：理論超純水 18.24MΩ.cm at 25℃ ULSI 製程 LCD 製程 水質項目 1Mb 4~16Mb 16~64Mb 64~256Mb 256Mb~1Gb 電阻 (MΩ.cm) 17.5~1.0 18.0 18.1 18.2 18.2 18.0 0.1μm 10~208 5 － － － 1 微粒子 0.05μm － 10 5 1