锗的红外折射率精密测量 - 光学精密工程.pdfVIP

第6卷　第4期 光学　精密工程 . 6, . 4 V o l N o 1998年8月 O P T IC S AN D PR EC IS ION EN G IN EER IN G A u gu st, 1998 锗的红外折射率精密测量 米宝永 ( 中国科学院长春光学精密机械研究所　　长春　130022) 　　摘要　利用所研制的KGZ 型高精度光电折射仪, 在5～ 10 6m 的光谱范围内, 测量了由北京有色金属研究总院研制的锗的折射率, 并与红外色散公式计算的结果进 行了比较, 分析了影响测量准确度的各项主要因素, 给出了具有±3 ×10- 4 准确度的测 量结果。 关键词　　红外　折射率　精密测量 1　引　　言 　　近十几年, 红外光学在我国发展十分迅速, 尤其在国防光学领域里, 随着红外热成像技术 的日臻完善, 锗材料在红外光学系统里的应用愈来愈受到重视。很早, 国外就有人对锗材料的 光学特性进行了大量深入的研究[ 1- 5 ] 。在1962年,M ax H erzb erger 就对包括锗在内的14种红外 光学材料进行了研究, 并将可见光波段的色散公式延伸至红外波段, 给出了它们的色散系 [ 1 ] [2 ] 数 。1973年, 英国国家物理实验室的 . . 研制了8～ 14 波段的记录式折射仪。稍 R P E dw in m [3 ] 后, 于1975 年 . . 等人也采用 自准直法 测量 了锗和硅在95 °～ 298 °, 波长在 B en C P lat t K K [4 ] - 4 ( 2 5m～ 12 3m 的折射率以及它们的温度系数 , 但上述测量只能给出±6 ×10 对锗而 ) [ 5 ] 言 的准确度。直至1982年, R. P. E dw in 和M . T. D u derm el 等人利用了自准直法测量了包括 单晶锗和多晶锗在内的10种样品, 在8～ 14m 的光谱范围内才获得了±3 ×10- 4 的不确定度。 我国起步较晚, 直到1990 年才研制了波长范围为3650nm～ 12m 的高精度光 电折射 [ 6 ] 仪 , 并于1993年在国内首先测量了由北京有色金属研究总院锗研究室研制的锗晶体的折射 率。将这些测量结果和由 的色散公式计算的结果相比较可以看出, 其折射率随 M