多层介质膜光栅掩模槽形的控制与检测.pdfVIP

多崖介质膜光栅掩模槽形的控制与检测 文摘要 多层介质膜光栅掩模槽形的控制与检测 中文提要 本文围绕多层介质膜光栅掩模的制作展开理论和实验研究，主要内容包括以 下几个方面： 首先介绍了研究惯性约束核聚变(ICF)的意义和国际上脉冲压缩光栅(PCG) 的研究进展。对光栅电磁场的严格矢量理论作了～定的介绍，选择严格耦合波 (rigorouscoupled—wave，i．e．RCW)理论作为本课题有关光栅衍射效率数值计算 的理论基础。 全息干涉是目前制作脉冲压缩光栅(PCG)的唯一有效方法。全息记录材料 也就是掩模的材料是光刻胶，因此本文对光刻胶的特性进行了比较深入地研究， 重点分析了显影液温度和显影时间这两个因素对它的影响。并以此为依据，采用 数据拟合及实验摸索的方法，得到了控制光栅掩模槽形比较有效的方法。 由于显影是掩模制作的最后一道工序，而且它能对曝光起到一定的补偿作用， 对最后的槽形有重要影响，因此在本课题中采用了显影实时监测的办法，采用测 量监测光(监测光不能使得光刻胶感光)菜级衍射效率的办法来判断显影过程中 槽形的变化情况。 最后论文提出了一种研究多层介质膜光栅掩模的无损检测方法。在基于RCW 方法数值拟合与计算的理论研究及分析的基础上，采用根据0级光谱衍射效率分 布的办法来检测光栅掩模的槽形；并且对多层介质膜光栅掩模进行了实验测量与 理论对比分析。深入的分析表明，该方法在一定程度上是有效的，但是由于受多 种因素的影响，该方法不能全面反映光栅掩模的形貌特征。 关键词：光栅严格耦合波理论光刻胶特性衍射效率槽形检测 作 者： 万华 指导老师：吴建宏 研究员 !!!!堡!竺塑!竺!旦塑塑!!!!坚唑：!!型望型型堕旦型坐型竺堕————————————尘!壁竺i andDetectionof Dielectric ProfileControl Multi-layer Masks Grating ABSTRACT dielectricmasksisinvestigated Thefabrication grating ofmulti—layer and inthis maincontentsareasfollows： theoreticallyexperimentallypaper．The confinement oftheresearchontheinertial fusion(ICF) significance Firstly,the onthe andthe oftheresearch compressiongratings(PCG)are progress pulse ofdiffractionisintroduced theory gratings electromagnetic presented．Therigorous is asthebasic of here．Andthe