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硅纳米线阵列的光学特性
第卷第期 发 光 学 报
年月
文章编号
硅纳米线阵列的光学特性
周建伟 梁静秋 梁中翥 王维彪
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室吉林 长春
中国科学院研究生院北京
摘要
在常温常压条件下采用改进的金属催化化学腐蚀方法在型单晶硅片上制备了大面积垂直于
硅衬底直径均匀排列整齐的硅纳米线阵列分析了样品的表面形貌和反射谱纳米线直径为
在腐蚀时间分别为时纳米线长度分别为 样品的减反射性能优异在
波段得到了的反射率初步分析了纳米线阵列的减反射机制和不同腐蚀时间样品的反射率差异
关键词金属催化化学腐蚀硅纳米线阵列减反射
中图分类号文献标识码
调节对不同晶面的腐蚀速率以获得较理想的表面
引言
反射率和实验重复性由于异丙醇成本高不利
可再生能源在社会经济生活中的重要性已经 于工业生产人们又开发出了 等
越来越明显在各种各样的可再生能源中太阳
溶液腐蚀硅片而无需添加异丙醇
能是取之不尽无污染的绿色能源 目前对于高
等 对溶液中以异丙醇作为添加剂的硅表
效单晶太阳能电池而言其表面反射率是影响 面腐蚀进行了系统的研究获得了反射率为
太阳能电池光电转换效率的重要因素之一改善
覆盖率为 的绒面席珍强等 提
硅表面结构可以降低对光线的反射有效地利用太 出以 溶液作为腐蚀剂虽然均匀性好成
阳能太阳能电池表面的织构化可以有效降低太
本低但重复性不好 杨志平等 提出用
阳能电池的表面反射率可以采用的方法主要有 溶液作为腐蚀液获得了反射率为
物理刻蚀 和化学腐蚀制绒面等 物理刻蚀 的减反射绒面
虽然对光线有更好的减反射作用但是成本较高 本文采用改进的金属催化化学腐蚀方法
不适合在生产上使用产业界通常采用化学腐蚀 对硅表面进行腐蚀在常温常压下制备出大面积
法来制备太阳电池表面绒面利用碱性溶液各向 排列整齐取向一致的硅纳米线阵列从而得到了
异性腐蚀技术可以在晶向的片上腐蚀 织构化的单晶硅表面对
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