Opto22 SNAP 系统在PECVD 生产线上的应用.PDF

Opto22 SNAP系统在PECVD生产线上的应用  北京奥普图控制技术有限公司 一、PECVD概述  PECVD=PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，即“等离子增 强型化学气相沉积”，是一种化学气相沉积，其他类似的还有HWVCD、LPCVD、 MOCVD等。  PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成 等离子体，而等离子化学活性很强，很容易发生化学反应，在基片上沉积出所期 望的薄膜。其技术原理是利用低温等离子体做能量源，样品置于低气压辉光放电 的阴极上，利用辉光放电或另加发热体使样品升温到预定的温度，然后通入适量 的反应气体，气体经过一系列化学反应和等离子体反应，在样品表面形成固体薄 膜。PECVD方法区别于其他CVD的方法特点在于等离子体中含有大量高能量 的电子，它们可以提供化学气相沉积过程中所需的激活能。电子与气相分子的碰 撞可以促进气体分子的分解、化合、激发和电离过程，生成活性很高的各种化学 基团，因而显著降低CVD薄膜沉积的温度范围，使的原来需要在高温下才能进 行的CVD过程得以在低温下实现。  PECVD制膜的优点及注意事项：  优点：  均匀性和重复性好，可大面积成膜；  可在较低温度下成膜；  台阶覆盖优良；  薄膜成分和厚度易于控制；  使用范围广，设备简单，易于产业化；  注意事项：  要求有较高的本体真空；  防止交叉污染；  原料气体具有腐蚀性、可燃性、爆炸性、易燃性和毒性，应采取必 要的防护措施。   PECVD的主要参数  RFPower：提供能量  真空度（与压力有关）  气体的种类和混合比  温度   二、Opto22SNAP系统在PECVD生产线上的应用  浙江慈能光伏科技有限公司，是专业双结非晶硅生产非晶硅太阳能薄膜电池 和组件的生产，产品可用于光伏幕墙，光伏系统。  慈能光伏原有的PECVD生产线的控制系统采用的是Opto22SNAP系列串 行通讯的控制器SNAP_LCSX_PULS和智能处理器SNAP-B3000，人机界面是 使用VB6编写的程序，由于在原来的控制器中没有编写任何策略，只简单的配 置了IO点，所以整个系统基本上没有自动控制的功能，人机界面也仅仅其他数 据显示的作用，在实际生产过程中还需要人工不断的干预才能完成。同时，由于 在整个控制系统有各个不同厂家的设备，包括AE的RFPowerCESAR1310、 MKS651C压力控制器、北仪的ZDF-5227II型复合真空计等，这些设备大多数 都是需要通过串口通讯的方式获得数据，因此原来系统只有通过MOXA的多串 口卡和它们通讯，使得整个系统的各个部分是独立的，这样的系统明显存在几个 不足的地方：  成本增加气体流量的增加、电力能源的增加；  生产效率低主要依靠人工操作，生产过程操作繁琐；  产品单一没有工艺选择的功能，只能生产一种产品；  安全隐患没有任何连锁保护和报警。 为了降低成本、提高生产效率、实现产品多样化，必须将整个系统的各个部 分整合在一起，对控制系统进行改造。在改造过程中，从成本上考虑，由于原有 的Opto22SNAP-LCSX-PLUS除去一个和计算机通讯的RS2323、一个和智能 处理器B3000通讯的RS485接口，还有2个已经串口可以外围设备通讯，完全 可以抛弃原有的MOXA多串口卡，从而将RFPower和MSK651C压力控制器 的数据采集和控制整合在一起，同时使用SNAP-PLUS-LCSX配套的组态软件 FactoryFloorSuit，将气体流量、电磁阀等其他设备的数据采集和控制也纳入到 这个系统中，从而完全实现了整个PECVD设备的全自动控制。 利用FactoryFloorSuit中的OptoControl控制策略编程软件，很容易的就 将生产工艺程序化后，下载到控制器SNAP-PLUS-LCSX中，整个PECVD的生 产工艺相当复杂，主要可以分为以下几个步骤： 1.抽真空  2.氢气清洗  3.氩气辉光  4