用在线椭偏仪研究非晶碳氢膜沉积和刻蚀过程.PDFVIP

第27 卷 第2 期 核 聚 变 与 等 离 子 体 物 理 Vol.27, No.2 2 0 0 7 年 6 月 Nuclear Fusion and Plasma Physics June 2007 文章编号：0254−6086(2007)02−0163−05 用在线椭偏仪研究非晶碳氢膜沉积和刻蚀过程 孙 超，徐 军，马腾才 (大连理工大学三束材料改性国家重点实验室，大连 116024) 摘 要：利用在线椭偏仪对非晶碳氢膜进行了光学常数、沉积率和刻蚀率的测量。在无直流负偏压或偏压较 小时，薄膜呈现聚合物结构，折射率和消光系数较小；当增加直流负偏压时，薄膜的折射率和消光系数显著提高， 所成膜为硬质非晶碳氢膜。在以CH4作为气源进行沉积时，随着偏压的增加，沉积率先升高再降低，在偏压为−100V 时，沉积率为最大。H /N (30% N )的混合气体的刻蚀率要比单独用H 作为刻蚀气体的刻蚀率要大。对于CH /N 2 2 2 2 4 2 (30% N2) ，在偏压从0V增加到300V过程中，在大约50V时，基底上的薄膜有一个从沉积到刻蚀的转化过程。 关键词：椭偏仪；非晶碳氢膜；沉积；刻蚀；光学参数 中图分类号：O539 文献标识码：A [6~9] 1 引言 洗技术也是研究的一个重要的方面 。 由于具有独特的物理性质，非晶碳氢膜(a-C: H) 相关学者已进行了用椭偏仪测试碳氢薄膜的 在机械、电子、光学、及医学等领域具有非常广泛 光学常数和厚度及对薄膜的沉积和刻蚀过程的研 的应用前景[1~3] 。通常利用含碳气源(如CH ) ，用等 究[3,4,10~13] 。椭偏仪是一种先进的测量薄膜厚度和 4 [3,12] 离子体增强化学气相沉积或物理气相沉积等方法 折射率的仪器 ，通过检测和分析入射光和反射 制备非晶碳氢膜。非晶碳氢膜中氢含量的比例多在 光偏振状态的改变进行测量，是一种主动的、非破 30%~50%之间，氢含量的多少和沉积过程中入射 坏性、无扰动、非介入的方法，具有测量精度高、 离子的动能相关。当入射离子的能量较低时，薄膜 灵敏度高、方便快捷和非接触等特点。 中氢原子的含量大约为50% ，此时几乎所有的碳原 用实时在线监测的椭偏仪，我们研究了ECR 子是SP3杂化，这种薄膜称之为类聚合物非晶碳氢 等离子体放电过程中CH4气体的沉积随基底直流 射频偏压的变化过程，O 、H 、N 和H /N 混合气 膜PAC ；当入射离子的能量比较高时(50eV) ，氢 2 2 2 2 2 体的刻蚀过程以及CH /N 的混合气体从沉积到刻 原子的含量降为约30% ，薄膜中约60%的碳原子是 4 2 SP2杂化的，我们称这种薄膜为硬质非晶碳氢膜。 蚀的转化过程；得到了沉积率和刻蚀率随偏压的变 根据不同的