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环氧基紫外负性光刻胶的特性_应用工艺与展望_朱军
20 4 Vol. 20, No. 4
2004 7 POLYMER M ATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING Jul. 2004
、
朱 军, 刘景全, 张金娅, 陈 迪, 石 磊
(, /, , 200030)
: 环氧基紫外负性光刻胶( S -8)是一种近几年发展起来的新型的光刻胶材料。 它是一种双酚 A酚
醛缩水 油醚环氧树脂溶解于 ( - )而形成的高分子有机聚合物胶体。 -8胶作为一
GBL VButyrolactone S
种光刻材料,由于其独特的光学性能,力学性能和化学性能等,在 M EM S(Micro-electro-mechanic-sys-
tem)研究领域正受到了越来越多的关注,目前已被广泛的应用于 M EM S器件的制备中。 本文介绍了它
的结构性能以及发展前景并报道了我们在其加工工艺上的研究进展。
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: 381 : : 1000-7555( 2004)04-0059-03
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