3d印象派立体.pdf

【101年全國高職學生實務專題製作競賽暨成果展報告書】 題 目 ：投影魔術-3D印象派 立體 「凸」型 指導老師：邱慧珊 參賽學生：黃冠瑋 洪源璟 學校名稱：台北市立松山高級工農職業學校 群 別：化工群 科別：化工科 中 華 民 國 1 0 1 年 2 月 2 4 日 目錄 摘要……………………………………………………1 壹、前言 ………………………………………………1 貳、研究動機 …………………………………………2 參、研究目的 …………………………………………2 肆、研究設備及器材 …………………………………2 伍、研究過程及方法 …………………………………4 陸、實驗數據 …………………………………………15 柒、討論 ………………………………………………18 捌、 結論………………………………………………20 玖、參考文獻…………………………………………20 0 投影魔術-3D印象派立體「凸」型 摘要 投影光蝕刻技術利用光聚合反應以及投影原理，堆疊二維圖層，可製作形狀 特殊的三維模型，不但降低三維控制系統的複雜度，如果加以適當的聚焦，可做 出毫米以下的元件。本實驗利用教學現場即能取得的投影機，加上簡單的光學器 械及化學材料，模擬投影光蝕刻技術的過程。本專題研究光徑安排與對焦、染料 添加物濃度、光能量及照光時間對產物生成的影響，並找出較佳的反應條件。 關鍵 字：光蝕刻、高分子、光聚合反應、三維模型 壹、前言 光蝕刻技術已為人所熟知，最初均用於形成二維結構，例如將感光劑塗在相 片的基板上，並曝光以發生聚合反應，呈現圖案。學術研究裡，使用一般光源或 電子束，調整光強度和照光時間等反應條件，對各種類型的光聚合反應，探討其 反應機制及速率關係。 到90 年代末期，Kawata研究群提出將二維平面圖形堆疊成三維的概念，以 完成精準的立體空間模型。Kawata 同時開發極高能量的長波長雷射當作光源， 稱為二光子吸收模式 (Two-photon absorption) 。因為波長較長，不會在奈米尺度範 圍發生繞射現象，同時，能量強度可使反應單體或起始劑在同一時間內吸收兩顆 光子，足夠以引發聚合反應。運用此法能突破傳統光源的繞射極限，產生非線性 光學現象，以產生更微小的圖騰，提高空間解析度，對於製作微機電系統所需要 的次微米小零件，十分有幫助。 微立體光刻術 (microsrereolithography)於近幾年發展成熟，可利用電腦設計模 型，並使用雷射光，控制噴頭與能量強弱，輔以精密的平面控制系統，先印刷好 單層結構，再調整垂直軸，生成另一層結構，逐層累積產生立體元件。次作法需 要良好的三維控制系統。 加州大學(柏克萊分校的) 教育研究團隊首先利用投影機為光源，發展微立體 蝕刻術，造出每層厚度只有 400 nm的高分子薄膜，並以此堆積出立體結構。這 些次微米元件於醫學治療領域：如成長組織用的微生物反應器、藥物投遞與偵測、 製造生化IC 以模擬生物系統，均十分重要。 與教材相關章節包括：分析化學科目裡所談到的分光光度計的使用、比爾定 律、藥品的配置；普通化學科目裡所談到的濃度的計算、反應速率；化工原理科 目裡所談到的聚合反應。 1 貳、研究動機 某次機會於科學教育網站上看到三維印刷 (3D printing)實驗，發現其操作原 理即「微立體蝕刻術」，可利用光入射來控制模型的成長，十分有趣。本專題利 用實驗室中常備的儀器和玻璃器材，建構以投影機為光源的光聚合反應產生裝置 ， 了解光聚合反應的發生原理與成膜現象，以及比爾定律在光聚合反應上的應用。 觀察高分子模型的成長過程 ，將二維圖形轉化成三維的立體概念 ，探討最佳的反 應條件 。學會編輯軟體的操作，並會依據內部功能調整光源輸入，了解步進裝置 的重要性與操作。 參、研究目的 一、了解透鏡和反