Cu团簇在金属表面沉积的可控制分析：惰性气体缓冲层的作用.pdfVIP

摘要 纳来函簇势惩生长已瘟爱予蠢藏吴畜特豫鑫孽悲、毫、磁菇菠力学缝震豹纳寒薄骥。遂 年来，实现可掇制生长，使合成的薄膜具有团麟的特定结构，成为人们关注的焦点。应用 Ar缓冲层实现辅助沉积己成为潮簇结构无碎裂沉积的最有前途的方法之一。本论文用分子 动力学方法研究了c“翅簇捉鞭褒加季垂褒上翻e#溷蔟援积在矮鸯Ar缓律屡翦cu(111)裘 蕊上的动力学过穗和沉积团簇的结构特征，Cu-Cu、Ar_Ar及Ar-Cu原子之问的相互作用分 别幽Finnis—Sinclain紧束缚多体熟、L．J势及由H．．P．Cheng提出一种对势描述。 我{}3黄先研究具育正，、囊髂黠髂性豹c琳溺簇援积在恕(111)挂瘫基的缡鞫特征。发现 在入射能量在20eV／atom以下时，Cu6基本能够僳持其原有对称性结构，丽猷诧能薰入射捌 cu村底时，团壤则完全散开。当闭簇沉积在Ar衬底时，团簇酋先膨胀，失农原有结构，接 饕又收缩，重新饿爱自由团簇的继稳，其翔，朦予的相对伎鬟发生了改变。缨果表明，Ar 衬底的影响，帮Ar-Ar和Ar-Cu潦予闯的相互律塌对于团簇翁构的傈挎起到了麓关重要的佟 用。 在此基础上，我们又研究翼宥二十面体对称性的cul3沉积程有Ar缓冲层的Cu(111) 袭谶静动力学篷稷秘沉耪鹜簇瓣结梅特征，著≈没有Ar缓冲菇豹表面沉积避纷了琵较。姿 入射能量为2-3eV／atom时，有Ar层辅助沉积时，具有Ih对称性的Cu团簇可以保持原有的 对称性。而没有Ar层辅助沉积，团簇则会失去了原有的对称性，并重新结晶，最终其结构 与en树底豹fee绝鞠类稼。Af掰越鬟瓣嚣蠲粪钕予海绵，耗鼗六帮努瓣入瓣糍燕，同对耱 北团簇过热。此外，Ar-Ar以及Ar-Cu之间的相踅作用也起到了约束团簇的作用。我们还计 算了沉积后团簇原子的横向发散，袭明有Ar臌辅助较没有Ar层时，原子阃的横向发散下 降了∞％，这每蜜验豹臻暴基本一致。 盘腿词： Ar缓冲层、金属团麟、无破碎沉积、分子动力学横拟 势类号：79。20．Rf,61,43。Bn，81+05。Bx，61。46．+W Abstract The cluster hasbeen to films deposition wi壤novel low-energy appliedproduce andmechanic controlled has optical，electronicproperties．Recently,thedeposition received muchattentionduetoits in filmsof potential applicationssynthesizing structure．Oneof specific the methodsisthe assisted promising ra豫一gas-buffer this ofthe Ar clusteron substrateandthe deposition．Inpaper,thedepositionsCu6 clusteron viaanAr-bufferwere Cul3 C《111)surface layer molecular investigatedby