碳氮膜的红外光谱特性分析 - 光子学报.pdfVIP

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2017-09-02 发布于天津
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碳氮膜的红外光谱特性分析 - 光子学报.pdf

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碳氮膜的红外光谱特性分析 - 光子学报

31 9 Vol31 No9 2002 9 ACTA PHOTONICA SINICA September 2002 贺庆丽姚合宝冯忠耀于明湘 ( , 710069) 用射频直流磁控溅射法在硅石英基片上制备碳膜; 采用傅里叶变换红外光谱 ( FTIR) 技术, 对基片上的碳膜进行红外光吸收谱测量, 发现所制备的膜中有相的C N ; 用 3 硬度计测量镀膜后的硬度, 均比镀膜前有所增强; 对所制备的膜进行热处理, 结果发现热处理前膜的红外吸收谱与热处理后的红外吸收谱相比没有变化, 说明膜的热稳定性较好, 可以作为红外光学材料碳膜; 磁控溅射; 红外光吸收谱 0 1 -C3N M . L. Cohen -Si N , , , Ar 3 1 N : , 2 A. Y. Liu Cohen JK-200A , -C N , , , 3 . 27 Mbars, . 3Mbars, : 1. 05Pa; Ar N 2 ,-C3N , , : 1; 1. 3kV; 50V; 150C , 2 1990 T orny X ( XPS) , C-N 1993 C-N , Cieber ; ; C-N 199 Lawrence ( FT IR) , Yu C-N , N 2. 1 X ( XPS) C-N , X ( XPS) , , 1 2~ C-N , C, O, N, Si, Cu, Zn: Cu , ( FT IR) ,