表面粗化工艺对IPMC的制备及性能的影响.pdfVIP

金 宁等：表面粗化工艺对 IPMC的制备及性能的影响 表面粗化工艺对 IPMC的制备及性能的影响 金 宁，王帮峰 ，卞 侃，陈 骐 ，熊 克 (南京航空航天大学 智能材料结构航空科技重点实验室，江苏 南京 210016) 摘 要： 基于二次渗透还原法对 IPMC材料的制备 面粗化方法分别是手工打磨，砂光机打磨和等离子表 进行研究。探索 3种不同的基膜表面粗化方法对 面处理。粗化后的3种基膜，通过相 同的浸渍一二次还 IPMC材料特性的影响。表 面粗化方法包括手工打 原离子交换的方法来制备 IPMC。通过对 3种不同粗 磨、砂光机打磨 以及等离子体表面处理方法。通过样 化工艺获得的IPMC试件特性进行对比分析，研究粗 件实测对3种不同粗化条件下获得的IPMC材料的外 化工艺对 IPMC特性的影响。 观特征、微观形貌、驱动变形特性以及表面电阻特性进 2 制备 IPMC过程 行了测试和比较。实验结果表明，随着表面粗化均匀 程度的提高，基膜表面及 内部金属沉积均匀与致密性 以阳离子交换膜 Nafion-117为离子聚合物基体， 增高，材料的驱动变形能力降低 。在一定的驱动电压 采用化学还原工艺制备 IPMC，其制备工艺主要有基 范围内，IPMC材料 的变形与 电压近似成线形增加 的 膜的打磨，清洗预处理，离子交换 (浸泡铂溶液)，两次 关系。在相 同的尺寸、约束 以及驱动 电压 (3V)条件 还原工艺等步骤，具体如图1所示 。 下，手工打磨的样件能够产生6O。的弯曲变形，砂光机 打磨样件为45。，而等离子体处理的样件只有 15。。 关键词： IPMC；表面粗化；SEM 分析 中图分类号： 0657 文献标识码 ：A 文章编号：1001-9731(2008)ii一1933—04 1 引 言 ． 图1 二次还原法 IPMC材料制备工艺过程 离子聚合物金属复合物 (ionicpolymermetal Fig1ManufactureprocessofIPMC composites，IPMC)是一种新型的智能材料，它具有重 2．1 实验主要设备和化学试剂 量轻并且在小的驱动电压下能产生大的变形的特点。 HH一2数显恒温水浴锅，温度控制范围室温～+ 利用这种材料可制作成具有操作简单安全，轻质，动作 100℃，低温等离子表面处理机，41110A型砂光机，细 灵活的新型驱动器，在柔性仿生驱动器，行星探测的小 砂纸，超声波清洗机，电动搅拌器，调速范围0~--3000r／ 型作动器，传感器，医学等领域都有着广阔的应用前 rain，电子天平，Nafion-ll7阳离子交换膜，盐酸，双氧 景[1]。例如，在行星探测器中，样本采集、光电设备表 水，铂盐络合物，硼氢化钠，水合肼，氨水，硫酸，氯化羟 面除尘等都可以采用 IPMC材料实现轻质简单的驱动 氨溶液，超纯水，烧杯及各种备用的玻璃器皿。 器[3]。目前，国内外学者所致力于研究的IPMC材料， 2．2 基膜预处理 主要是由阳离子交换膜和贵金属，如铂、金、银等通过