步进扫描光刻机同步控制和硅片变形误差补偿技术研究.pdfVIP

中国机械工程第* 卷第% 期#, 年# 月上半月 步进扫描光刻机同步控制 及硅片变形误差补偿技术研究 # 胡旭晓! 台宪青 ! 杨克己 $ 浙江大学现代制造工程研究所，杭州，%#’ # $ 中国科学院自动化研究所，北京，( ! ! ! ! 摘要：在建立光刻机工作台、掩膜台的运动控制模型基础上，提出工作台 二级进给控制策略及工作台、掩膜台同步控制策略，并且通过自适应同步控 制和逐场对准方式下分段误差校正技术对硅片变形进行补偿。实验证实，当 硅片非线性变形占总变形的比例分别为) 、%) 、*) 时，通过以上方法能 够补偿的不同步误差分别为+($ , ) 、+- $ %) 和+, $ #) 。 胡旭晓! 副教授 关键词：同步控制；误差补偿；硅片变形；光刻机 中图分类号：./%* $ ’! ! ! 文章编号：, 0 %# !（#, ）% 0 +# 0 , !#$% ’ () !%’*(+’,-,’. /’+0 1’$ 213)+ 4)3+51,’ 6+++ /57)’81,’ 9)*(’0.% 3+ !)7 !*1’’,’. :()*(,’. ;1*(,’) # 12 324567 ! .65 3568958: ! ;68: =5 $ ?@=568: A85B=CD5EF ，168:G@72 ，%#’ # $ .@= H8DE5E2E= 7I J2E7K6E578 ，L@58=D= JM6N=KF 7I OM5=8M=D ，P=558: ，( =8+1* ：Q8 E@= R6D5D 7I =DE6RS5D@58: E@= T58=K6E5MD K7N=S 7I U6I=C E6RS= V K6DT E6RS= ，E@= M78EC7S DEC6EW =:5=D 7I EU7 0 DE6:= I==N I7C U6I=C E6RS= 68N DF8M@C785G58: U6I=C E6RS= U5E@ K6DT E6RS= U=C= XC=D=8E=N$ Y=68W E5K= ，E@= U6I=C N=I7CK6E578 U6D M7KX=8D6E=N RF K=68D 7I 68 6N6XE5B= DF8M@C785G58: M78EC7S V X5=M=U5D= =CC7C C=B5D578 E=M@87S7:F R6D=N 78 6S5:858: I5=SN RF I5=SN$ .@= =4X=C5K=8E6S C=D2SED 58N5M6E= ：U@=8 E@= C6E57 7I U6I=C 878 0 S58=6C N=I7CK6E578 E7 E7E6S N=I7CK6E578 5D ) ，%) V *) ，+($ , ) ，+- $ % ) V +, $ # ) 7I 878 0 DF8M@C785G58: =CC7CD M68 R= M7KX=8D6E=N C=DX=ME5B=SF RF 2D58: E@= 6R7B= K=E@7N$ )% ?+$8 ：DF8M@C785G58: M78EC7S ；=CC7C M7KX=8D6E578 ；U6I=C N=I7CK6E578 ；X@7E7=EM@58: K6M@58= ! 引言 动，微动台由压电陶瓷驱动器驱动。尽管目前国际 光刻技术在经历了接触式、接近式、投影式、 上高精度直线电机的分辨率已达到8K ，如果需要 Z 反射扫描投影式、步进缩小投影式几个大的技 保证较高的定位和