无裂纹镀铬与双层硬铬涂层比较.docVIP

无裂纹镀铬和双层硬铬涂层的比较 在这项研究中,标准的单层无裂纹镀铬和双层和无裂纹硬铬涂层制备使用直流电(DC)和脉冲电流(PC)低碳钢基体上电镀过程。 研究了涂层的显微组织、显微硬度和耐蚀性的观点。 涂层的腐蚀抗性相比已经通过电化学极化在3.5%氯化钠溶液和标准盐雾试验。 腐蚀测试前后的显微结构的表征测试是通过光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)。 硬铬的微观裂纹密度、显微组织、利用脉冲电流电沉积可能是有限的。 无裂纹硬铬涂层,它由PC-electroplating沉积,是优良的耐腐蚀性能。 双涂层的厚度比与无裂口子层和硬铬表面涂层厚,也分别由PC -和DC-electroplating流程标准镀铬浴。 标准硬铬涂层沉积到DC-electroplating已经锈渍的表面和边缘。 无裂纹子层的涂料在耐腐蚀涂料表现出非常好的业绩,没有腐蚀产物的表面和边缘样本。 在3.5%氯化钠溶液由DC-electroplating Cr-deposited低于标准。 所有的涂料钝化在3.5%氯化钠溶液和盐雾测试环境。 此外,双层涂料,涂层之间的比率的75%无裂纹层(破碎硬顶层25%)显示最好的耐腐蚀性能。 ?微裂纹可以通过使用脉冲电流电沉积中删除。 ?裂口硬铬涂层是优良的耐腐蚀性能。 ?双涂层制备PC -和DC-electroplating流程。 ?双涂层表现出优异的耐腐蚀的结果。 ?在生理盐水环境中所有的涂料钝化。 1，双层铬工艺及流程 同一镀液两种镀槽中电沉积制备乳白/光亮双层铬镀层。工艺流程为：前处理─装挂─入槽─镀乳白耐蚀铬─镀光亮耐磨铬─出槽─清洗─除氢─抛光─检验。 镀液组成为： CRO3 200 -250G/L， H2SO4 2.2 -2.6G/ CR3+离子2.0 -3.5 G/。 先在60 -65 °C、15 -25 A/DM2 下施镀30 分钟得到乳白铬镀层， 随后在55 -60 °C 40 -50 A/DM2镀90 分钟，即得乳白/光亮双层铬镀层。 双层铬镀层的孔隙率比单层光亮铬镀层小，二者显微硬度相近，耐磨性优越。实际生产应用表明，双层铬镀层的耐蚀性优于单层光亮铬镀层。得到的铬为乳白色，无光泽。乳白铬镀层孔隙很少，耐蚀性好，但硬度稍低，不能作为最终硬铬层。而光亮耐磨铬层的显微硬度为600 -900 HV ，完全满足零件硬化层的硬度要求，同时镀层光亮，满足产品外观要求。 2，无裂纹镀铬工艺 项目 最佳 铬酸 200-350G/L 硫酸 2-3 DW-032脉冲催化剂 1-3％（体积）。 DW-032镀铬添加剂 10-20ml/l 三价铬 1-6g/l 金属污染物 5.0克/升 氯化物 20 PPM ●板微裂纹，无裂纹和多相存款在同一镀槽的能力。 双层铬必须在两槽 ●存款厚度可达0.100“每边是可能的。 双层铬必须大于0.3即三丝 ●硬度70 RC具有出色的亮度和耐磨性。 底硬度低，长时间不耐磨 ●耐腐蚀500小时的盐雾小于0.002“存款。 96小时 ●极低的存款压力和高沉积率。 沉积率低 ●优异的附着力，多相位存款无边界线。 附着力一般 工艺规范： 铬酐：250-300g/l 最佳值280 硫酸：1.8-2.5g/l 三价铬：2.5-5g/l 添加剂A(DW-032A)：10-20ml/l 添加剂B(DW-032B)：10g/l 无氟抑雾剂C（ DW-026）: 0.05~0.15ml/l 温度：45-59°注意温度不要过高 电流密度：35-90A/dm2 电流效率：30-35 KAH消耗 A 50ml/l B 0.25- 0.5g/l 无氟抑雾剂C 0.01ml/l 100kg铬酐需加入A 3-5kg， B 0.5- 1kg C100ml