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- 2017-08-15 发布于天津
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第三章以垂直入射方式及移相干涉量二高度分引言般而言使用波移相干涉量物的高度化大多用量高度化小於波的物高度化大於法判干涉的了量高度化大的物我使用短波合成一等效合成波去量此技就是所的波相位移干涉在本章中我使用波移相干涉量物微的二高度化以及使用波相位移干涉量物大高的高度化合此技可以同到高敏度以及大高量等容包括待物的介移相干涉的原理及其架果最後其差原理本中介待物以及波移相干涉量待物微的二高度化再以波移相干涉量待物大高的高度化如此可以到高敏度以及大高度量等待物本文研究的主要目的即利用光以垂直入射的方式察待
第三章 以垂直入射方式及移相干涉術測量二維高度分佈
3.1引言
ㄧ般而言,使用單波長移相干涉術來測量物體的高度變化時,大多用來測量
高度變化小於 λ/2[16](λ為波長的物體。當高度變化大於) λ/2時,則無法判斷干
涉條紋的階數,為了測量高度變化較大的物體,我們選擇使用兩較短波長合成一
等效合成波長去測量,此技術就是所謂的雙波長相位移干涉術[17] 。在本章中,
我們將使用單波長移相干涉術測量物體細微的二維高度變化,以及使用雙波長相
位移干涉術測量物體大階高的高度變化,結合此兩種
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