薄壁铜铝管电阻焊焊接界面的微观结构研究 Microstructure investigation for the interface of electric resistance welded CuAl thin walled tube.pdfVIP

第32卷第3期 兵器材料科学与工程 V01．32No．3 2009韭5月 ORDNANCEMA7rERIALSCIENCEANDENGINEERING May，2009 薄壁铜铝管电阻焊焊接界面的微观结构研究 刘英才1，张玉明1，荣鼎慧1，赵越1，尹衍升1，左铁军2 (1．中国海洋大学材料研究院，山东青岛266100；2．青岛市海青机械总厂山东青岛266003) 摘要利用SEM、EDS等技术对电阻焊薄壁铜铝管焊接界面进行研究．并结合Cu—Al二元相图进行界面分析。研究结果 表明在铜铝连接管的焊接界面处，铜与铝进行原子的互扩散。且铜原子向铝侧扩散的深度比铝原子向铜侧扩散的深度要 大。对界面进行背散射电子分析和能谱分析，发现界面存在柱状晶形貌的CuAl：相和呈灰白相间的层片状的Q—AI与 CuAI：的共晶。讨论柱状晶与共晶组织的形成与性能。并分析其对接头性能的影响。 关键词Cu／AI薄壁管；电阻焊；界面；微观结构 中图分类号TG457 文献标识码A 文章编号1004-244X(2009)03--0024-03 Microstructurefortheinterface investigation ofelectricresistancewelded Cu／A1thinwalledtube UU Yingcail，ZHANG Dinghuil，ZHAOYuel，YIN Yumin91，RONG Yanshen91，ZUOTiejun2 ofMaterialsScienceand of (1．Institute Engineering，OceanUniversity China，Qingdan266100，China；2．QingdaoHaiqing General 266003，China) MachineryFactory，Qingdao Almmct electron other Wele microscope(SEM)andenergy-dispersive analytic Scanning spectroscopy(EDS)andtechniques usedto thecharacteristicoftheinterfaceoftheelectricresistanceweldedC血UtIlin tubethis walledin inter- study paper．The face totheAI-Cu foundthatacertaininterdiffusionofaluminumand w船analyzedaccording binary diagram．It’S copper phase took inthe interfaceoftheCu／AItubeandthediffusionW88 one fromtheCusideintotheAIside． place welding pr