光催化技术在降解有机染料污染物方面的应用.PDF

　第 22 卷 　第 6 期 感 光 科 学 与 光 化 学 Vol. 22 　No. 6 　 　2004 年 11 月 Photographic Science and Photochemistry Nov. , 2004 　 综　述 光催化技术在降解有机染料 污染物方面的应用 崔玉民 (阜阳师范学院 化学系 ,安徽 阜阳 236032) 摘　要 : 光催化技术是一种新兴的高效节能现代污水处理技术 ,本文从半导体 光催化技术研究现状、反应机理、反应动力学、光催化技术发展及其存在的问题 等方面对半导体光催化技术在降解常见有机染料方面的应用加以综述. 关 键 词 : 光催化技术 ; 有机染料 ; 光催化降解 ; 二氧化钛 文章编号 : (2004)　　中图分类号 : O64 　　文献标识码 : A 从 Fujishima 等[1 ]于 1972 年发表了 TiO2 单晶电解水制氢的研究论文后 ,光催化反 应引起了化学、物理、材料、环境保护等领域许多学者的重视. 近十多年来 ,各国的环境科 学工作者以半导体为催化剂的光催化技术处理方法 ,对印染废水处理的可行性进行了大 量研究. 从研究结果和现状来看 ,该方法对单一染料和实际印染废水处理的效果已被公 认. 这主要是由于光催化氧化法具有很强的氧化能力 , 最终使有机污染物完全氧化分 解[2 ] . 光催化法具有结构简单、操作条件容易控制、氧化能力强、无二次污染等优点[3 ] . 1 　光催化反应原理 ( ) ( ) 当半导体光催化剂 如 TiO2 等 受到能量大于禁带宽度 Eg 的光照射时 ,其价带上 ( - ) ( + ) 的电子 e 受到激发 ,越过禁带进入导带 ,在价带留下带正电的空穴 h . 光生空穴具有 强氧化性 ,光生电子具有强还原性 ,二者可形成氧化还原体系. 对于染料光催化降解来 说[4 ] ,在可见光照射下 ,染料溶液的 TiO2 光催化降解不仅破坏了染料分子中的共轭发色 体系 ,而且破坏了其分子结构 ,吸附在 TiO2 表面上的染料被激发后 , 向 TiO2 导带注入一 个电子生成正碳自由基 ,导带中的电子可以和溶解在水中的 O2 生成·O2 ,并进一步转化 成为 HOO ·或羟基自由基·OH. 这些高活性自由基进攻染料自由基后 , ·OH 与发色基团 收稿日期 : ; 修回日期 : ( ) 基金项目 : 安徽省教育厅自然科学基金资助项目 No. 2004kj303 . ( ) 作者简介 : 崔玉民 1964 ,男 ,硕士 ,教授 ,研究方向为光催化及有机合成 , 已发表论文多篇. 434 © 1995-2005 Tsinghua Tongfang Optical Disc Co., Ltd. All rights reserved. 　第 6 期 崔玉民 : 光催化技术在降解有机染料污染物方面的应用 　　435 　 Ar N N Ar 中的 N N 反应生成 Ar —NO ,Ar —NA 等 ,经过一系列复杂的氧化 ( - 2 -