Altera三大策略打造45nm FPGA Altera Three strategies construct 45 nm FPGA.pdfVIP

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2017-08-12 发布于上海
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Altera三大策略打造45nm FPGA Altera Three strategies construct 45 nm FPGA

● AItera ● FPGA 三大策略扣造45nm AET网站记者杨晖半导体行业的竞争始终在加速浸设式光刻，超低k薄膜以及高k 进行，当今市场对半导体器件的要电介质。在此情况下，芯片研发成本求已经发生了巨大变化。过去，用户至少提高了50％，掩膜成本提高了最注重的足器件性能，其次是功耗， 50％(45nm在$3M以上)；IC设计和最后才足价格。随着半导体器件性生产工艺之间的辐台性越来越紧能的不断提高，尤其是中低端产品密。IC设计者更要关心底层工艺问成为应用主流，用户更看重成本，其题。特别地，无晶圆厂设计公司必须次是功耗，最后才是性能。特别自与他们的EDA工具厂商、代工伙伴 2002年以来．FPGA产业出现了巨大密切合作。的增长，FPGA产品在容量和速度上 chian博士说，45nm相对65nm M嘶yChiml 都足以满足大多数商业应用的需的优势要比65nm相对90nm的优势 Altem公司技术开发副总裁求．尤其是在所谓的“非传统”FPGA更大，开发难度也更高，器件开发过研发、产能和质量控制方面都处于领域；如果能不断降低成本和功程中的泄漏管理、电压饱和、变异管领先地位。对于AItem这样的无晶耗．FPGA在消费电子、汽车电子、通理、逆温现象、加速低功耗转换等技圊厂半导体供应商，与台积电合作信、广播，工业等市场的应用将更加术都面临挑战。这些问题不足无法应当说是最好的选择。广泛。FPcA足一种通用逻辑器件，解决，但增加了开发成本，提高了代采用更先进的工艺来提高性能、降工厂商进入的门槛。Altem通过选择“硅片率先投产”设计方法低成本和功耗是其最佳途径．在完正确的合作伙伴、采用“硅片率先投 Altem的“硅片率先投产”设计 for“丘rstB∞ 成向65nm工艺转型后，FPCA厂商产”的设计方法以及协作设计和工方法(Desi印m时hodology cont0 将缩小线宽的竞赛延伸到了45nm艺开发的方式来实现2008年45nm 和32nm。lO月23日，A1tem公司技FPCA的量产。的性能和可靠性。其创新的呵编程术开发副总裁MoiyChian博士来到正确的合作伙伴功耗技术，可允许一些不会被调用北京．在媒体座谈会上介绍了该公的晶体管暂时处于休眠状态，当再 ——台积电司45nmlC的开发情况。次被调用时，它们可以立刻恢复动 AIte哺与台积电有13年多的合 45nm节点被称为Ic设计的分力，使新一代芯片的功耗显著降低；作历史，顺利地