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Altera三大策略打造45nm FPGA Altera Three strategies construct 45 nm FPGA
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AItera
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FPGA
三大策略扣造45nm
AET网站记者杨晖
半导体行业的竞争始终在加速 浸设式光刻,超低k薄膜以及高k
进行,当今市场对半导体器件的要 电介质。在此情况下,芯片研发成本
求已经发生了巨大变化。过去,用户 至少提高了50%,掩膜成本提高了
最注重的足器件性能,其次是功耗, 50%(45nm在$3M以上);IC设计和
最后才足价格。随着半导体器件性 生产工艺之间的辐台性越来越紧
能的不断提高,尤其是中低端产品 密。IC设计者更要关心底层工艺问
成为应用主流,用户更看重成本,其 题。特别地,无晶圆厂设计公司必须
次是功耗,最后才是性能。特别自 与他们的EDA工具厂商、代工伙伴
2002年以来.FPGA产业出现了巨大密切合作。
的增长,FPGA产品在容量和速度上 chian博士说,45nm相对65nm
M嘶yChiml
都足以满足大多数商业应用的需 的优势要比65nm相对90nm的优势 Altem公司技术开发副总裁
求.尤其是在所谓的“非传统”FPGA更大,开发难度也更高,器件开发过
研发、产能和质量控制方面都处于
领域;如果能不断降低成本和功 程中的泄漏管理、电压饱和、变异管
领先地位。对于AItem这样的无晶
耗.FPGA在消费电子、汽车电子、通理、逆温现象、加速低功耗转换等技
圊厂半导体供应商,与台积电合作
信、广播,工业等市场的应用将更加 术都面临挑战。这些问题不足无法
应当说是最好的选择。
广泛。FPcA足一种通用逻辑器件,解决,但增加了开发成本,提高了代
采用更先进的工艺来提高性能、降 工厂商进入的门槛。Altem通过选择“硅片率先投产”设计方法
低成本和功耗是其最佳途径.在完 正确的合作伙伴、采用“硅片率先投 Altem的“硅片率先投产”设计
for“丘rstB∞
成向65nm工艺转型后,FPCA厂商产”的设计方法以及协作设计和工 方法(Desi印m时hodology
cont0
将缩小线宽的竞赛延伸到了45nm艺开发的方式来实现2008年45nm
和32nm。lO月23日,A1tem公司技FPCA的量产。 的性能和可靠性。其创新的呵编程
术开发副总裁MoiyChian博士来到 正确的合作伙伴 功耗技术,可允许一些不会被调用
北京.在媒体座谈会上介绍了该公 的晶体管暂时处于休眠状态,当再
——台积电
司45nmlC的开发情况。 次被调用时,它们可以立刻恢复动
AIte哺与台积电有13年多的合
45nm节点被称为Ic设计的分 力,使新一代芯片的功耗显著降低;
作历史,顺利地
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