Parylene高频电路防护工艺研究进展 The Development for Parylene Applied in High Frequency Circuit as A Passivation Layer.pdfVIP
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Parylene高频电路防护工艺研究进展 The Development for Parylene Applied in High Frequency Circuit as A Passivation Layer
电子工艺技术
272 E 墨 旦墨墨 QQg 2011年9月 第32卷第5期
Parylene高频电路防护工艺研究进展
仝晓刚
(中国电子科技集团公司第十研究所,四川 成都 610036)
摘 要:从前处理、升华温度、裂解温度、沉积压力、基体温度和膜层厚度等方面讨论~ParyleBe处理技
术在国内外高频电路防护方面的应用概况。重点介绍了这些工艺要素与Parylene膜层性能的相关性 ,并指出了
膜层厚度及均匀度是影响高频电路防护的关键因素,膜层厚度需要通过试验进行确定,简要论述了Parylene膜
层的沉积机理与Parylene处理技术在毫米波电路防护上应用的工艺流程。同时指出了Parylene处理技术在高频电
路防护应用中存在的不足之处,为以后的研究指明了方向。
关键词:Parytene;电路防护;化学气象沉积;沉积压力
中图分类号:TN605 文献标识码:A 文章编号:1001—3474(2011)05—0272—05
TheDevelopmentforParyleneAppliedinHighFrequencyCircuit
asAPassivationLayer
TONGXiao-gang
IThe10thinstituteofChinaelectronictechnologyCorporation,Chengdu610036,Chinal
Abstract:DiscusstheapplicationofParyleneinHighFrequencyCircuitasaprotect-ionlayer,includingpreparation
process,sublimationtemperature,pyrolysistemperature,depositionpressure,basetemperatureandthefilm thickness.The
relativityofprocesselementsandfilmisintroduced.Putforwardfilmthicknessanduniformarethekeyfactorsofhighfrequency
protection.Thefilmthicknesscoulddeterminebytheexperiment.ExpoundthemechanismofParylenedepositionandtheprocess
flow inmillimeter-wavecircuit.Finally,theshortageofParyleneusedinhighfrequencycircuitandthenewresearchpointswas
proposed.
Keywords:Parylene;Circuitprotection;Chemicalvapordeposition;Depositionpressure
DocumentCode:AArticleID:1001.3474(2011105.0272.05
Parylene是聚对二甲苯的统称,目前 已经商业化 首次研究了ParyleneN在40GHz电路上的防护性能,
且应用较为广泛的包括ParyleneC (1C1取代基 )、 结果表明,在环形腔和共面波导传输线上,lO m的
ParyleneD (2CI取代基 )和ParyleneN (无取代基 )。 膜层的插入损耗为0.007dB/mm,频率漂移低于1%,
由-J~Parylene具有优异的水汽阻隔性能、物理机械性 5 m的膜层对插入损耗没有影响,其频率漂移低于
能、电气性能和防腐蚀性能而被广泛应用在高频电 0.05%L5】。HasanSharifi等把精度为5 m土0.1 m的
路防护上 ¨J。国内目前对Parylene在电路上的防护 ParyleneN应用在40GHz
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