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发明了原子力显微镜
Atomic Force Microscope 指導老師:吳坤憲 教授 學生:張正倫 高煜彬 郭奐均 原子力顯微術的三種操作模式優缺點 接觸模式之優點: (a) 掃瞄速度較快。 (b) 表面形貌解析度較高,唯一可得到原子大 小解析成像的模式。 (c) 適用於表面起伏大的樣品。 接觸模式之缺點: (a) 掃瞄時產生摩擦力會使成像失真。 (b) 吸附現象、表面黏性、彈性等因素會影響 表面形貌。 (c) 較容易刮傷樣品表面。 非接觸模式之優點:可減少樣品刮傷。 非接觸模式之缺點:空間解析度較差。 半接觸模式之優點: (a) 橫向解析度較高。 (b) 低作用力,可減少樣品刮傷,故適 合較軟的材料和生物樣本(DNA)。 半接觸模式之缺點:掃瞄速度比接觸模式慢。 AFM掃描模式適用範圍 重大突破 AFM具有三個傳統顯微鏡無法達到的重大突破: AFM具有極高度的解析力 AFM具有三維立體的成像能力 AFM可以在多種環境下操作 AFM的結構 生物科技上的應用 解決生物學難題的理想工具: (1)樣品不需具導電性 (2)對DNA、蛋白質進行形態分析 (3)進行直觀下的分子剪輯、DNA特殊位點的定位 AFM之運用 IC材料檢測 由掃描元件表面來偵測其缺陷與否,來偵測磁碟片(CD、DVD)等模版的表面是否有缺陷。 用以掃描空白光碟片,利用電腦運算可以量測其組成是否一致及其截面的對稱性。 * 原子力顯微鏡 Southern Taiwan University of Technology 概述 1982年IBM蘇黎世研究所的Binnig 與Rohrer[1]及其同事成功地研製出第一台掃描式穿隧顯微鏡(Scanning Tunneling Microscopy,STM),為人類在奈米級乃至在原子級水準研究物質的表面原子、分子的幾何結構及與電子行為有關的物理、化學性質開闢了新的途徑 1986 年,Binnig,Quate 和Gerber[2]發明了原子力顯微鏡(Atomic Force Microscopy,AFM)改良了掃描式穿隧顯微鏡(STM)需導電材料的限制,使得研究的材料表面不再受限於導電性材料,彌補了掃描式穿隧顯微鏡(STM)的不足。 AFM的操作原理 原子力顯微鏡(AFM)之量測方式主要是利用光學放大原理,感測探針的微小彎曲或振動。 首先,使用雷射二極體產生一雷射光束,經鏡片聚焦於探針尖端背面,再反射至四象限光檢測器上,並在光檢測器的四個象限上感測到不同大小的電流。當探針產生變形時,光感測器接收到的光點位置會變化,而改變光感測器的每個象限的電流大小,而感測到作用力的程度,此反應的程度和針尖與試片表面的距離有關。 AFM之操作原理與迴授控制系統 AFM在檢測試片表面特性時,微探針會先接近掃瞄試片表面,在兩者距離極為接近約10nm 產生超距力場,而受力的程度會和針尖與試片表面的距離相關,再利用感測器來檢測探針受力變形的程度,將此感測訊號迴授給控制系統,控制掃瞄平台來維持試片與微探針的距離,進而得到試片局部表面的高度,最後,配合二維掃瞄平台的移動則可構畫出表面形貌。掃瞄平台的動作方式可以是將微探針固定而移動試片,或是試片不動而微探針作掃瞄運動。 x-scanner z-scanner y-scanner Laser Sample photodetector ECU PC PID V Topography 原子力顯微鏡之分類 接觸模式 (Contact AFM) 非接觸模式 (Non-Contact AFM) 半接觸模式(Semicontact Mode AFM) 接觸式 (Contact mode) 定高度模式(Constant height mode) 接觸式 (Contact mode) 定力模式(Constant force mode) 非接觸模式(non-contact mode or NC-AFM) 定振幅方式與共振頻率偏移方式 半接觸模式(Tapping Mode) 探針和樣品間的距離介於接觸式和非接觸式,即0.5 至數十奈米之間,探針懸臂振動的振幅較大,在振幅最低點的位置,探針恰敲擊試件表面。 半接觸式模式和非接觸模式的操作方式類似,屬於動態量測。其成像模式是採定振幅方式,當探針與樣品間產生交互作用力時,懸臂的振幅會增加或衰減,利用壓電掃瞄平台的上下調整可得到定振幅,因此得知樣品表面形像,解析度較非接觸模式的解析度高。 AFM操作模式的比較 解析度:接觸式>半接觸式(5-10
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