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硅片的化学清洗技术的
凑彝黔二
滚 满 势 料 满 演 雀甲
命 撇 秘 绪耀 曝 麟 凑 碌 争翻 镯
争铡羚 争渗 场 嘟争 郭 癫
硅片的化学清洗技术
卜
巍 穿 一 嚷 缈 一 噢
一食 食一
张厥宗
、 、
硅 片经过切 片 倒 角 双面研 日 颗粒沾污 运 用物 理 的方 日一
磨 、 抛光等不 同的工序加工后 其表 法可采用机械擦洗 或超 声波清洗技 美 国 巨 公 司
‘
面 已受到严重 的沾污 , 硅 片清洗 目 术 来去 除粒径 》 协 颗粒 , 代
的就在于清除晶片表面所有 的微粒 、 利用兆声波可去除 》 。 排 颗 美 国 公 司
金属离子及有机物等沾污 。 粒 。
注 日本 一 丁 日公 司 日 一
硅片的化学 卜 兆 声清洗 比机械擦洗 或化 学
清洗工 艺原理 清洗 效率 高 倍左 右 , 所 用化 学试剂 金属离子沾污 硅 片表 面 必
是一般清洗 方 法 用液 的 左 右 须 采用化 学清洗 方法 才 能去 除 的金
硅 片经过不 同工序加 工后 其 。
见 表 属杂质 沾污 有两 大 类
表面 已受到严重污染 一般来讲硅
常用 兆 声换 能器 生产厂 家 一类是沾污离子或原子通过
片表面沾污 大致可分为三类
日本 丫 引 比 公 司 日 一 吸 附分散 附着在硅 片表面
有机 杂质沾污 可通过有机
另 一类是带正 电的金属 离子
溶剂 的溶解作 用 结合超 声波清洗 “ ”
。 日本 公 司 得到 电子后面 附着 尤 如 电镀 到
技术来去除
表飞 超声波清洗与兆 声波清洗 比较
超超超声 兆 声
频频 率率 一
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