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高k栅介质mosfets的二维阈值电压模型 2d threshold-voltage model for high-k gate-dielectric mosfets
第27卷第10期 半导体学报 V01.27No.10
2006年10月 CHINESEJOURNAL0FSEMICONDUCTORS 0ct.,2006
2D for
Model MOSFETs+
Threshold—VoltageHigh一艮Gate-Dielectric
Ji PT2,Chen Li
Fen91,XuJingpin91…,Lai Weibin91,andYanpin91
w“加,I 430074,cm凡口)
(1眈彤rf,,lenf0,EfecfroⅢc&妇,lcenc^nDfDgy,H“口z^o他【,Ⅲw删fyo厂&fen俚nndnc^几ofDgy,
(2D9P口rf,,Ie,lfo,Efecfric口fEzecf,口njc-Ehgf,lee—ng,unfve,百ffyD,舶,喀Kong,.HongKDng,(^ind)
AbstI.act:New conditionsanda2D distfibutionthechannelofa
boundary potential along high.足gate.dielectric
bOththe dielectricmaterialandthe onthisdis·
MoSFET,includinggate region depletionregion,aregiVen.Based
tributiOn,a2D modelwiththe andshort.channeleffectsis fora
threshold.vOltage fringing.field developedhigh.七
MoSFET.ThemOdel wellwith dataanda 2DmOdel,andisevenmore
gate.dielectric agrees experimentalquasi
accuratethanthe 2Dmodelat drain thethresholdbehaviorofthe
quasi higher voltages.Factorsaffecting high.七
MoSFETarediscussedindetail.
gate.dielectric
threshold short—channeleffect
Key dielectric;MOSFET; field;
words:high·七gate V0ltage;fringing
PACC:7340Q;1240Q
CLCnumber:TN386D0cument Article
code:A ID:0253—4177(2006)10.1725.07
mustbe Liu
dielectricMOSFETs develoDed.
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