最小方差自校正控制在流体过程实验装置中的应用论文.doc

最小方差自校正控制在流体过程实验装置中的应用毕业论文 目 录 摘 要 III ABSTRACT IV 第一章 绪论 1 1.1 研究目的和意义 1 1.2 过程控制系统概述 2 1.2.1 过程控制发展概况 2 1.2.2 过程控制发展的主要特点 3 1.3 自适应控制系统概述 4 1.3.1自适应控制系统的发展概况 4 1.3.2自校正调节系统的发展概况 5 1.4 最小方差自校正控制的研究与应用 6 1.4.1最小方差自校正控制的研究现状 6 1.4.2最小方差自校正控制的应用 7 1.5 本文的主要研究内容 8 第二章 自校正调节系统 9 2.1自校正控制系统 9 2.2自校正控制系统数学模型 10 2.3最小方差调节器 11 2.4系统辨识 15 2.5最小方差自校正调节器 17 第三章 设计方案 20 3.1 总体结构设计 20 3.2 硬件系统介绍 21 3.2.1 流体过程控制装置的组成 21 3.2.2 硬件系统组成 22 3.3 软件设计 25 3.3.1 软件设计概述 25 3.3.2 数据通信 25 3.3.3 软件设计 28 第四章 流体过程控制系统人机界面设计 31 4.1 工业组态软件MCGS概述 31 4.2 建立工程 32 4.3 用户界面的设计和组态 34 4.4 流体过程控制系统实验平台界面 40 第五章 系统仿真及实验结果分析 43 5.1 递推增广最小二乘法参数估计仿真 43 5.2 最小方差自校正算法仿真及比较分析 45 5.3 仿真小结 48 5.4 实验结果分析 48 结论 51 结束语 52 参考文献 53 摘 要 本课题主要是对最小方差自校正调节器的研究。最小方差自校正调节器是按最小输出方差结合自校正控制律，采用递推最小二乘参数估计算法直接估计控制器参数。通过对自适应控制，自校正控制和最小方差自校正控制算法的推导与研究比较，提出最小方差自校正控制在流体过程控制实验装置应用的理论依据。 本课题设计方案是基于实验室的Me093395-H1过程控制实训平台。采用两级控制系统来实现：第一级计算机监控级（上位机）主要实现综合监视试验过程主要信息、历史数据存档、给下位机发布命令及高级控制算法的实现等；第二级控制级 (PLC)完成下层各系统数据信息采集、过程控制等任务。本系统SCC(上位机PC)采用MCGS组态软件开发人机界面监控系统和MATLAB开发高级控制算法;下位机采用PLC可编程控制器，可实现过程的实时PID控制。上下位机采用串口进行PPI通讯，而MCGS与MATLAB之间采用DDE通讯。 仿真和实验结果表明，本文所述的理论分析和采用的控制方案能在实际条件下，实时、有效地辨识参数和实现自适应控制律。将最小方差自校正控制算法应用在流体过程控制实验平台中，使得控制效果有了较大的提高。通过采用最小方差自校正控制，有效地解决了流体控制过程中参数调节不方便，以及系统控制精度低等缺陷。 关键词：最小方差，自校正控制，MATLAB仿真，MCGS，流体过程控制系统 ABSTRACT The main topic is the minimum variance self-tuning regulator. Minimum variance self-tuning regulator is based on comprehensive self-tuning minimum output variance control law, the use of recursive least squares parameter estimation algorithm estimates the controller parameters directly. Through deriving and comparatively studying the adaptive control, self-tuning control and self-tuning minimum variance control algorithms, it is contained the theoretical basis of the application of the self-tuning minimum variance control in the fluid process control device . The research projects are based on Me093395-H1 process control training platform, and the two-stage control system is used in this project. The first c