全电子束光刻制造二维光子晶体波导器件解决方案 an all-e-beam lithography process for the patterning of 2d photonic crystal waveguide devices.pdfVIP

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2017-08-17 发布于上海
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全电子束光刻制造二维光子晶体波导器件解决方案 an all-e-beam lithography process for the patterning of 2d photonic crystal waveguide devices.pdf

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全电子束光刻制造二维光子晶体波导器件解决方案 an all-e-beam lithography process for the patterning of 2d photonic crystal waveguide devices

第卷第期半导体学报 27 11 VOl.27 NO.11 年月 2006 11 CHINESEJOURNAL OF SEMICONDUCTORS NOv. 2006 An All-E-beam Litho ra h Processfor the Patternin g p y g of 2D PhotonicCr stal Wave uide Devicesy g 。 T Yu ~eun Yu jinZhOn and Chen ShaOWu g State Ke Laborator o Inte rated O toelectronics Instit teo Semicond ctors $ $ f g P f ChineseAcadem o Sciences Bei in 100083 China $ f J g Abstract We resent an all-e-beam litho ra h EBL rocessfor the atternin of hotoniccr stalWave uides. P g P Y P P g P Y g The Wholedevicestructuresareex osed in tWoste s.Holesconstitutin the hotoniccr stallatticeand defectsare P P g P Y