cymer准分子激光器的工作原理及应用 the principle and application of cymer excimer laser.pdfVIP

电字工业董用设蚤 ·设备与工艺· Cymer准分子激光器的工作 原理及应用 宋健1，朱鹏2，张文雅1，雷宇1 (1．中国电子科技集团公司第十三研究所，石家庄05005l 2．清华同方，北京100084) 摘 要：论述了Cymcr公司ELS一6000系列准分子激光器工作原理和激光器的各个组成模块。在 应用方面，论述了激光束的传输方法和与St印per通信接口的应用，最后论述了激光气体的安全使 用，防止对工作人员造成伤害。 关键词：准分子激光器；二聚物；投影光刻机 中图分类号：TN248 文献标识码：B The and of ExcimerLaser PrincipleApplicationCymer soNG Yu2 Jianl，删Pen￡zHANG、№n-yal，LEI 13mR船earch 05005l，China (1．The Institutc，CECT，Shijia吐啪g 2．QingIluaTong胁g，Beijing100084，ChiIm) Abstract：Thisamcle the of ELS一6000s甜esl髂cr锄dits eXpounds wo凼ngp血cipleCymer com研sed article the仃ansmitedmethodoflaserbeamand modules．In印plication，theeXpoundes co伽叭micated intemcewith theanicledescribessafeuseofl嬲er to sta丘§仔omham． st印per，finally gasprcVcnt Keywords：Excimerl嬲er；Dimcrs；Stepper 1 引言 善但DDF却大幅变差，另外增大M势必要增大镜 头口径角，这样将增加光学系统制造难度。现代光 刻线宽优于150m的投影光刻机均系采用DUv 基于分辨率尺=K。Af^H和可用焦深DDF= M 波段准分子激光作为曝光光源。ASML即采用美国 K2 2两个公式可以看出：若想提高光刻机曝光 分辨率同时可用焦深DDF又不受太大影响，采用Cymer公司准分子激光器作为曝光光源用于其高 端产品上。如：ASMLPAS5500一300 减少曝光光源波长A的方法优于增大数值孔径ⅣA Stepper采用 的方法。这是因为增大M虽然系统分辨率得到改 CymerKrf准分子激光器(A=248nm)实现150姗 收稿日期：2008．06．15 作者简介：宋健(1951．)，男，高级工程师，从事半导体设备设计与维护工作； 万方数据 电子工业专用设苗 ·设备