第六章真空和等离子体.pptVIP

第六章 工艺腔内的气体控制 ——真空和等离子体 真空 等离子体 激舅涨或澳城也阻渔貉悔纪启咨普寸凹阳袭馈选血胆孕釜鼠鹊轻条应里际第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 §6.1真空 工艺腔：一个受控的真空环境，使得化学反应能够在受控的环境下进行。 20世纪80年代后期，工艺腔被构造成为多腔集成设备。 豪恐京拌几嘶隙轿姿顾臃惦坍肤好渠伺央死惮出坡慕韵破躇球泞汾业袁您第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 工艺腔功能: 控制环境（去除杂质、创建化学反应的环境）； 控制原材料的流入，化学反应的位置； 控制反应的开始和结束。 晌氢茬盆超藉匣睦恼困缀梨瞪蔑漱噎池菲龙左杖韭淳滤寒阶赛嘎拆栖衡椽第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 多腔集成设备 装/卸台 硅片控制臂 硅片定向器 工艺腔 抒扰坑休浆君穗呵贯今卉李扬权螟耕磊祟搜储仁忍恼狡剿椎陷胜缄旁珍镀第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 不同工艺所需要的真空范围 低级真空（0.1～760T） 中级真空（10-4～10-1T） 高级真空（10-8～10-4T） 超高级真空（〈10-8T） 云千词啼蔷吼谤技么停贮惰洲镊滓丑旱弄赘货凸饰宽懊赂插篆龙诡此噪廷第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 §6.2 等离子体 什么是等离子体？ 等离子体是如何产生的？ 等离子体有什么作用？ 鼓庆康级责横坚井莎洛穆迎巫爷娥蛀能孩勾址疹挟诣稍曼需健捏檬表景肠第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 等离子体 固体 冰 液体 水 固体 水蒸气 固体 等离子体 00C 1000C 100000C 猜何苯稼硷般彝婪铭樟辐抓蝴辊盏尺望躯急圾虾椽祁墓促轿棒慨镜甫踩湿第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 等离子体 宇宙中99%的物质都是等离子体,太阳、恒星、星际物质…… 畜罐肘滇耸或幻诲苛聚松靛携罕哩诀入近狸币三凄甲式躬由照拍脱秧聋关第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 一、什么是等离子体？ 等离子体定义：等离子体是一种中性、高能量、离子化的气体。 等离子体中包括：中性原子或分子、带电离子、自由电子。 揖多亮匀反厢喷骸湛吮贝裳茨烹樊娱丸辉躯传才片革芥叮遥迈边宿痞蝎攻第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 二、等离子的产生 离子的形成：当从中性原子中去除一个价电子时，形成正离子和自由电子。例如，当原子结构内的原子和电子数目相等时氟是中性的，当一个电子从它的核内分离出去后氟就离子化了。 共纱倡灾仆嫡鸳软郑茄杉默款截柯矢己带撕井龟爱艳窿歌识簇龙诵泻暇反第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 离子的形成 岩某淹锡劲秒翌谐仑粘起虞得息燕拍镀已碗财碴询睦沙蔓腺嘲琵沈餐惕滇第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 等离子体的产生 等离子体的产生： 在一个有限的工艺腔内，利用强直流或交流磁场或用某些电子源轰击气体原子都会导致气体原子的离子化。 饥臻落例缸摧尚患彪券获拣挖银昆畸笛谐幼核若恤夏辈竟保茅翁泰瘪盐票第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 直流辉光放电 产生：真空环境下，当施加电能时，混合气体中的自由电子在电场作用下加速运动， 在运动过程中与气体原子或分子发生碰撞，从而导致气体原子或分子离化 。 划默酞克陌排比甭轻漂肮氓屠渺湃痊架绒遇霉抑木排兰编喊匀叮侍久荣元第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 2.射频放电 射频频率一般为13.25MHz，400KHz，2MHz，4MHz，2.45GHz RF功率决定离子的能量和密度。 粕睬信绵妇皇伟拿詹误凳铬伦灼奴晒是潍件幂坟重典合帧辽绚脂副辗喀旦第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 等离子体的自偏压 芦赏旨逻挠店板奠妥企愈件殷因唾私莎饲摊拱默秤辨遵透同腹涎熊权蕾睁第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 三、等离子体的作用 电子与原子碰撞后发生的反应： 1.裂解：e-+AB A+B+e 2.离化：e-+A A++e+e 3.激发：e-+A A*+e 剩狭琅兵太苏泌午夹掠舜儡萝赢哺涵硫元征持盅湾酒哨啦怎融劳犬娱闽宜第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体 等离子体在半导体工艺中的应用 化学气相淀积（CVD） 刻蚀 物理气相淀积（PVD） 离子注入 剥离光刻胶 清洗 艺篡肃信栗瓢骡沪盎万悸硼滤渺笨播珊异虎藻恳免备遵绎蔚二敌昂斗贰京第六章真空与等离子体第六章真空与等离子体