led用蓝宝石晶片湿法腐蚀清洗技术的研究 study on wet etching cleaning technology of sapphire wafer for led.pdfVIP

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  • 2017-08-20 发布于上海
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led用蓝宝石晶片湿法腐蚀清洗技术的研究 study on wet etching cleaning technology of sapphire wafer for led.pdf

led用蓝宝石晶片湿法腐蚀清洗技术的研究 study on wet etching cleaning technology of sapphire wafer for led

遭选堇查皇塑鱼翼星垦蚕警蚤堂錾耋型垦坚团 LE D用蓝宝石晶片湿法腐蚀清洗 技术的研究 郑佳晶,孙敏,张金凤 (中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京101601) 摘 要:介绍了蓝宝石晶片的清洗原理:通过分析蓝宝石的表面净化原理和对湿法腐蚀清洗工 艺试验的研究.提出了一种适用于工业化生产蓝宝石晶片的清洗剂和净化工艺,满足了LED领 域的蓝宝石晶片表面洁净度要求。 关键词:蓝宝石晶片;净化工艺;清洗剂;湿法腐蚀 中图分类号:TN305.97 文献标识码:A Wet of on EtchingCleaningTechnologySapphire Study WaferforLED ZHENG Min,ZHANGJinfeng Jiajing,SUN

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