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EV 集团推出全新掩模对准光刻技术突破速度和精度极限.PDFVIP

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  • 2017-08-21 发布于天津
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EV 集团推出全新掩模对准光刻技术突破速度和精度极限.PDF

    即刻发布集团推出全新掩模对准光刻技术突破速度和精度极限相较上一代平台全新自动掩模对准系统产出率和对准精度提升两倍为光刻解决方案带来了全新应用微机电系统纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商集团今日宣布推出旨针对大容量先进封装应用推出的全新自动掩模对准系统光刻机配备了高强度和高均匀度曝光镜头全新晶圆处理硬件支持全局多点对准的全毫米和全毫米晶圆覆盖以及优化的工具软件与此前推出的光刻机相比产出率和对准精度都提升了两倍这套系统最大程度地满足了对后端光刻最严苛的要求成本相较竞争者降低该款光刻机

    即刻发布 EV 集团推出全新掩模对准光刻技术突破速度和精度极限 相较上一代平台，全新自动掩模对准系统（IQ Aligner NT ）产出率和对准精度提升两倍，为EVG 光刻解决方 案带来了全新应用 微机电系统（MEMS ）、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商EV 集团 （EVG ）今日宣 布推出 IQ Aligner NT ，旨针对大容量先进封装应用推出的全新自动掩模对准系统。IQ Aligner NT 光刻机配备 了高强度和高均匀度曝光镜头、全新晶圆处理硬件、支持全局多点对准

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