溅射粒子能量对金属Mo薄膜表面特性的影响.PDFVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ,% #! !’ #! ， ， ， -*0 +,% M* + #! NOPO@QOA !’ （ ） #G%!6H!’H,% #! H’%6$G ;I FJK9L; 9LML; !!’ ;R12 + FRS3 + 9*P + !!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!! 溅射粒子能量对金属! 薄膜表面特性的影响 齐红基 易 葵 贺洪波 邵建达 （中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 !#$ ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） !% # # !’ ( ! 利用原子力显微镜研究了不同溅射离子能量对 薄膜表面形貌的影响 利用特殊设计的夹具，在同一真空内 )* + 完成所有薄膜样品的制备，减少了多次沉积过程对薄膜生长特性的影响 对原子力显微镜测量得到的表面高度数 + 据进行相关运算，从统计角度定量地研究了不同沉积能量下 薄膜表面特性 结果表明，薄膜表面具有典型的分 )* + 形特征，在相关运算的基础上给出了表面的分形维数、水平相关长度、界面宽度等参数 其中，屏栅电压为 时 + , - 制备的薄膜样品与% 和 - 时制备的薄膜样品表面的界面宽度及水平相关长度具有倍数差别，但三种溅射电 压下薄膜表面的分形维数均接近于 分形维数表明 薄膜生长过程可以用 扩散模型来描述 另外，采用 ! . )* )/00123 + 俄歇测试技术对薄膜深度方向的组分进行了分析+ 关键词：离子束溅射，钼，薄膜，分形 ： ， ， ， #$%% $##,4 (##,5 ($6 ,,, 响，得到不同溅射能量下制备薄膜表面的界面宽度、 #. 引 言 分形维数、水平相关长度等参数+ 研究发现，屏栅电 压为, - 时制备的薄膜样品与% 和 - 时制 软 射线多层膜反射元件与现代科学技术研究 7 备的薄膜样品表面的界面宽度及水平相关长度均有 的前沿课题密切相关，在生物样品的全息和显微术、 倍数差别，但表面的分形维数均接近于! . )* 薄膜 射线照相术、射线平板印刷术、射线激光及同 生长过程可以用 扩散模型来描述 7 7