种植体及钟摆矫治器远移上颌磨牙效果比较.docVIP

种植体及钟摆矫治器远移上颌磨牙效果比较[摘要]目的：研究安氏Ⅱ类错颌患者中，采用微型种植体作支抗与钟摆矫治器远移上颌磨牙进行比较，以评价两种方法的各自特点。方法：将28例成人患者随机分成两组．分别采用两种方法远移上颌磨牙。测量上颌第一磨牙在近远中方向、颊舌向、垂直向的位置变化以及水平向的扭转变化，以衡量磨牙的位置改变。并通过上中切牙的位置变化，评价支抗强弱。结果：种植体作支抗组上颌第一磨牙平均远中移动5.2mm，疗程4.4个月，平均移动速度1.2mm／月；磨牙长轴向远中倾斜角度4.6°；磨牙颊向移住1.6mm；磨牙发生远中舌向水平旋转约4.9°；上颌中切牙位置基本无改变。钟摆矫治器组上颌第一磨牙平均远中移动3.5mm．疗程4.2个月，平均移动速度0.8mm／月；磨牙长轴向远中倾斜角度12.6°；磨牙颊向移位0.5mm；磨牙发生远中舌向水平旋转约2.8°；上颌中切牙切端向远中移动0.5mm。结论：两种方法比较，种植体的支抗更强，未见前牙支抗丧失，且二者磨牙的移动方式有所区别。 [关键词]磨牙远移；种植体支抗；钟摆矫治器；安氏Ⅱ类错颌 种植体支抗近年来在正畸学领域受到越来越多的重视，在临床中的应用日益广泛。推上颌磨牙远移经常会遇到支抗不足的问题。本研究利用种植体作支抗推上颌磨牙远移，并将其与临床中常用的钟摆矫治器推上颌磨牙远移作比较。通过比较，既可以使我们对这种方法加深认识，了解它的临床效果和作用特点；又有助于从中发现存在的问题，以便今后加以改进，更好地为临床服务。 1　材料和方法 1．1　临床资料：选择28例成人患者(男性12例，女性16例)，年龄16～20岁，平均18.5岁。双侧第一磨牙为远中尖对尖关系；上颌牙列拥挤度小于5mm，下颌牙列基本正常；上下颌第二磨牙完全正位萌出；所有患者上颌第三磨牙先天缺失。 1．2　治疗方法：将所有患者采用完全随机化的分组方法分成两组，分别采用微型种植体支抗与口内支抗(钟摆矫治器)推上颌磨牙远移。具体分组及临床操作如下：①第一组(种植体支抗组)：常规装配上颔方丝弓矫治器，上颌第一前磨牙制作个别带环，带环颊侧焊接托槽。上颌第二前磨牙暂不粘结托槽。将种植体植入预定部位(上颌第一磨牙和上颌第二前磨牙之间的颊侧牙槽骨内)。上颌初始弓丝为0.45mm不锈钢丝弯制的随行弓。将螺旋推簧挤压后置于上颌第一前磨牙与第一磨牙之间，推簧压缩6mm，力量约250g。通过0.25mm不锈钢丝将种植体与上颌第一前磨牙作“一”字形紧密结扎。②第二组(钟摆矫治器组)：常规装配上颌方丝弓矫治器，上颌第一前磨牙制作个别带环，带环颊侧焊接托槽。钟摆矫治器的近中游离端焊接于上颌第一前磨牙舌侧，远中游离臂插入上颌第一磨牙带环舌侧焊接的扁管内，预先测得游离臂所产生力量为250g。上颌初始弓丝为0.45mm不锈钢丝弯制的随行弓。 1．3　测量方法：每一位患者治疗前后均拍摄正中颌位头颅定位侧位片，取上下颌的研究模型。所有X线片均由同一名口腔正畸医师在一段集中的时间内用硫酸纸描图、定点、画线、测量，每个项目测量3次，取平均值，输入计算机进行计算。制作印模、灌注模型由一名操作熟练的护士完成，由同一名口腔正畸医师在一段集中的时间内对所有模型定点、测量，每个项目测量3次，取平均值。测量工具为游标卡尺和量角仪。 1．3．1　X线片测量项目 1．3．1．1　测量基准平面(线)：①PP(腭平面)：通过前鼻棘(ANS)与后鼻棘(PNs)连线的水平面。②PFP(翼上颌裂平面)：通过翼上颌裂点(Ptm点)且垂直于腭平面的平面。③SN(前颅底平面)：通过蝶鞍点(s)与鼻根点(N)连线的平面。 1．3．1．2　测量项目：①6－SN角：上颌第一磨牙长轴与SN连线的夹角(前下角)。表示上颌第一磨牙的远中倾斜程度。②6－PFP：测量上颌第一磨牙牙冠中点至翼上颌裂垂线的距离。以此表示上颌磨牙的矢状位置。③6－PP(mm)：测量上颌第一磨牙牙冠中点至PP平面的距离。以此表示上颌磨牙的垂直位置。④1－SN角：上颌中切牙长轴与SN连线的夹角(前下角)，表示上颌中切牙长轴的改变。 1．3．2　研究模型测量项目 1．3．2．1　测量基准平面：①mp1：腭中缝平面；指通过上颌腭中缝且与上颌平面垂直的平面。②pf1：腭小凹平面(连线)：通过上颌腭小凹的连线以及通过此线与上颌平面垂直的平面。③mpa：通过上颌第一磨牙近颊尖、远舌尖的连线。 1．3．2．2　测量项目：①6－mp1：上颌第一磨牙中央窝至腭中缝线的垂直距离。表示上颌第一磨牙的颊舌向位置。②6－mpa：通过上颌第一磨牙近颊尖、远舌尖的连线与腭中缝线的夹角。表示上颌第一磨牙的水平扭转程度。③1－pf1：上颌中切牙切缘至腭小凹连线的垂直距离，表示上颌中切牙的矢状方