基于afm的多图层图形加工 nano-fabrication of multi-layer pattern with afm oxidation.pdfVIP

第5期 微细加工技术 No．5 2007年10月 MICROFABRlCATl0NTECHNOLOGY Oct．。2007 文章编号：1003．8213(2007)05-0026-05 基于AFM的多图层图形加工 李晓娜1,2韩立1 (1．中国科学院电工研究所，北京100080；2．中国科学院研究生院，北京100039) 摘要：基于AFM阳极氧化加工理论，对AFM阳极氧化加工技术在多图层图形结构加工制造中的 应用开展研究。提出一种新型的基于标记对准的套刻对准方法，并应用具有高分辨率的游标对图 形的套刻对准精度进行直观、可靠的测量。实验结果证明，利用所提出的AFM套刻对准方法，能 够在不引入复杂光学对准设备的条件下，实现25nm左右的套刻对准精度，完成具有多图层的纳 米级图形结构制备。 关键词：AFM加工；对准精度；多图层图形结构 中图分类号：TN305．7 文献标识码：A 1引言