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摘要
摘要
本文以钛酸四丁酯为钛源,聚乙二醇(PVA).碘为修饰剂,采用水热制备
XPS等手段对所合成的催化剂进行表征。考察了催化剂在模拟太阳光光照下,对
四环素光催化活性。结果表明:PVA加入量为O.89,KI与h的质量比为2,煅
烧温度为200℃,制备的PVA—I修饰Ti02为锐钛矿介孔材料,比表面积、孔径
eV。
和孔容分别为221.49 cm3·91,禁带宽度为1.35
m2·g一、41.96nm和0.2324
介孔Ti02催化剂重复使用4次,四环素的去除率在90%以上。
用PVA.I修饰的介孔Ti02作为光催化降解的催化剂,以400W金卤灯为模
拟太阳光光源,研究四环素的光催化降解。探讨了反应过程中不同条件、催化剂
用量、初始pH、初始浓度和共存离子等对四环素的光催化降解的影响。结果表
明:在0.19·L。1四环素的溶液初始pH值为4,催化剂投加量19·Lo时,光催
素的光催化降解有明显的抑制作用。通过对四环素降解的机理分析,推测出四环
素光催化降解的两条途径:一是四环素取代基的脱除;二是四环素多环的断裂。
利用PVA.I修饰的介孔Ti02催化剂,对四环素、盐酸土霉素、盐酸金霉素、
盐酸四环素的光解、吸附和光催化降解研究以及降解过程中溶液毒性分析测定,
初步探明不同四环素类抗生素的光催化降解的毒性变化。结果表明:不同结构的
四环素类抗生素在低浓度时,光分解率的顺序为四环素盐酸金霉素盐酸四环素
盐酸土霉素,催化材料对其吸附顺序为盐酸金霉素四环素盐酸四环素盐酸土
霉素,光催化降解顺序为四环素盐酸四环素盐酸土霉素盐酸金霉素。四环素
类抗生素的光催化降解是一个解毒的过程,反应前期,反应产物的毒性略有增强,
随着降解时间的增长,中间产物的生物毒性逐渐减小。4种抗生素的光催化降解
反应动力学均遵循准一级反应动力学。
关键词:水热法、四环素、抗生素、光催化、降解机理
Abstract
Abstract
Ti02 were
Poly—vinylalcohol(PVA)一iodinecomplexdopedmesoporouscatalysts
titanateas
preparedbyhydrothermalmethod,usingtetrabutyl precursor,potassium
iodateand as
iodineiodinesources.The werecharacterized
as-preparedcatalysts by
andFE—SEM.The of
UV二Ⅵs,XRD,BET,TG-DTA,XPS
photocatalyticactivity
wasevaluated decolorizationof
catalysts throughphotocatalytic tetracyclineaqueous
solutionunderthesimulated resultsshowedthatwhenKIandhmolar
sunlight.The
ratiowas calcination was modified
2,the 200℃,PVA—I Ti02
temperatur
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