工艺波动检测方案优化.docVIP

安徽大学 本科毕业论文（设计、创作） 题　　目：　　 工艺波动检测方案优化　　　　 　　 　　　　　　 　　　　　　　　　 　　　 学生姓名：　　　姜钰 学号：　 　 院（系）： 　电子信息工程 专业：　微电子　　　 入学时间：　 　2007　　　　　年　　　9　　　月 导师姓名：　　洪琪 　　 职称/学位：　 讲师/博士　 导师所在单位：　 安徽大学电子信息工程学院 　　 完成时间：　 　2010　　　　　年　　　5　　　　月  工艺波动检测方案优化 摘 要 随着集成电路的发展，器件的特征尺寸快速缩小，电路的性能得到了提高。但在工艺发展到纳米量级技术带的同时也带来了一系列的挑战，特别是工艺波动性的问题。 工艺波动。是指绝对服从均值为0的正态分布，并且完全与位置无关的波动，而是与位置相关的波动，即除之外的一切波动。 通常可以用的波动来SMIC 65nm工艺条件下DUT阵列的随机波动的电路。该电路利用片上校准电路来完成一个低电压高灵敏度的传感器，实现对DUT阵列随机波动的检测，并对电路进行了相应的改进。 关键词：工艺波动；随机波动；系统波动；随机波动检测；传感器； Optimization of Process Variation Test Abstract With the development of Integrated Circuits, rapidly shrinking of devices feature size, the circuit performance has been improved. But when the process technology develops to the band of nanometer, it also brings a series of challenges, especially the process variation which may reduce the performance improvement with the scaling. It not only affects the circuit yield, but also affects the circuit performance and reliability. Process variation can be divided into random variation and systematic variation. Random variation obeys the normal distribution with absolute value of 0, and completely unrelated to the position. Systematic variation is the variation associated with the position, that is, the variation except the random variation. With-in-die (WID) variation can often be characterized by the variation of VTH, this paper presents a low-voltage high-sensitivity sensor utilizing an on-chip calibration circuit to measure the random variation of DUT array in SMIC 65nm process technology from the sight of designer, and makes some corresponding improvements to the circuit. Keywords：process variation；；； 目　　录 1绪论……………………………………………………………………………………………1 1.1工艺波动产生的背景………………………………………………………………………1 1.2工艺波动的简介和分类……………………………………………………………………1 2检测电路实现方案……………………………………………………………………………3 2.1电路组成框图………………………………………………………………………………3 2.2电路工作原理………………………………………………………………………………3 3电路组成模块…………………………………………………………………………………5 3.1 Repl